[发明专利]进行了空间相位调制的电子波的发生装置有效
申请号: | 201980010817.8 | 申请日: | 2019-01-21 |
公开(公告)号: | CN111656482B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 桑原真人;斋藤晃 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | H01J37/073 | 分类号: | H01J37/073;G02B21/32;H01J37/26 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 丁文蕴;金成哲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 进行 空间 相位 调制 子波 发生 装置 | ||
1.一种电子波发生装置,其特征在于,具备:
激光输出装置,其输出激光;
空间光相位调制器,其输入上述激光输出装置输出的激光,并输出对输入的激光进行了空间相位调制的激光;以及
半导体膜,其输入上述空间光相位调制器输出的激光,并输出电子波,
上述半导体膜的表面由NEA膜被覆,
上述半导体膜的厚度比上述半导体膜中的电子的相干弛豫时间乘以上述半导体膜中的电子的移动速度得到的值薄,
向上述半导体膜输入的激光的相位的空间分布和上述半导体膜输出的电子波的相位的空间分布一致。
2.一种电子显微镜,其特征在于,
具备权利要求1所述的电子波发生装置。
3.根据权利要求2所述的电子显微镜,其特征在于,
具有电子波透镜,该电子波透镜将权利要求1所述的电子波发生装置产生的电子波聚焦,
在权利要求1所述的电子波发生装置产生的电子波存在的相位的空间分布被通过上述电子波透镜产生的相位的空间分布抵消。
4.根据权利要求2所述的电子显微镜,其特征在于,
权利要求1所述的电子波发生装置产生电子波,该电子波在该电子波发生装置产生的电子波的横截面的中央部与周边部之间具有90度的相位差。
5.根据权利要求2所述的电子显微镜,其特征在于,
权利要求1所述的电子波发生装置产生电子波,该电子波具有条纹状的强度的空间分布。
6.根据权利要求2所述的电子显微镜,其特征在于,
权利要求1所述的电子波发生装置产生电子波,该电子波具有能够通过相位恢复法处理的相位的空间分布。
7.根据权利要求2所述的电子显微镜,其特征在于,
权利要求1所述的电子波发生装置产生电子波,该电子波具有能够通过压缩感测法处理的相位的空间分布和强度的空间分布。
8.根据权利要求1所述的电子波发生装置,其特征在于,
上述空间光相位调制器输出涡旋光,
上述半导体膜输出涡旋电子波。
9.一种电子波镊装置,其特征在于,
在权利要求8所述的电子波发生装置附加有移动上述涡旋电子波的照射位置的移动装置。
10.根据权利要求1所述的电子波发生装置,其特征在于,
上述空间光相位调制器输出进行了束成型的激光,
上述半导体膜输出进行了束成型的电子波。
11.一种电子波发生方法,其特征在于,具备以下工序:
向空间光相位调制器输入激光输出装置输出的激光,并输出进行了空间相位调制的激光;以及
向由NEA膜被覆的半导体膜输入进行了空间相位调制的上述激光,并从上述半导体膜输出电子波,
上述半导体膜的厚度比上述半导体膜中的电子的相干弛豫时间乘以上述半导体膜中的电子的移动速度得到的值薄,
上述半导体膜输出电子波,该电子波具有与向上述半导体膜输入的上述激光的相位的空间分布一致的相位的空间分布。
12.一种利用电子波透镜将通过权利要求11所述的电子波发生方法产生的电子波聚焦的方法,其特征在于,具备:
上述电子波透镜求出给由该电子波透镜聚焦的电子波带来的球面像差的相位的空间分布工序;以及
上述空间光相位调制器输出激光的工序,其中该激光具有被上述工序中特定的相位的空间分布抵消的相位的空间分布。
13.一种利用通过权利要求12所述的方法聚焦的电子波的观察方法,其特征在于,
具备向试样照射通过权利要求12所述的方法聚焦的电子波的工序。
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