[发明专利]辐射冷却装置在审
| 申请号： | 201980009051.1 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111630419A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 末光真大;斋藤祯 | 申请（专利权）人： | 大阪瓦斯株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/26 | 分类号： | G02B5/26;B32B7/035;B32B15/04;B32B17/06;F28F21/04;F28F21/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 童春媛;庞立志 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 辐射 冷却 装置 | ||
【权利要求书】：
1.辐射冷却装置，其是将从辐射面辐射红外光的红外辐射层和位于该红外辐射层的与所述辐射面存在侧相反一侧的光反射层以层叠状态设置而成的辐射冷却装置，其中，
所述光反射层构成为将由银或银合金形成的第1层和由铝或铝合金形成的第2层以使所述第1层位于靠近所述红外辐射层一侧的形态层叠的状态。
2.根据权利要求1所述的辐射冷却装置，其中，所述第1层的厚度比3.3nm大，并且为100nm以下。
3.根据权利要求1或2所述的辐射冷却装置，其中，所述第1层的厚度为50nm以上且100nm以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的辐射冷却装置，其中，所述第2层的厚度为10nm以上。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的辐射冷却装置，其中，所述红外辐射层由无碱玻璃、冕玻璃、硼硅玻璃中的任一种玻璃构成。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的辐射冷却装置，其中，将所述红外辐射层作为基板，层叠所述第1层和所述第2层。
7.根据权利要求6所述的辐射冷却装置，其中，在所述红外辐射层与所述第1层之间层叠密合层。
8.根据权利要求6或7所述的辐射冷却装置，其中，在所述第2层的与所述第1层存在侧相反一侧层叠抗氧化层。
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