[发明专利]离子化方法和试样支承体有效

专利信息
申请号: 201980006764.2 申请日: 2019-01-30
公开(公告)号: CN111512151B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 小谷政弘;大村孝幸 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G01N27/626 分类号: G01N27/626;H01J49/04;H01J49/16
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦;徐飞跃
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 离子化 方法 试样 支承
【权利要求书】:

1.一种离子化方法,其特征在于,包括:

第1步骤,准备具有基片和导电层的试样支承体,其中,所述基片形成有多个贯通孔,所述多个贯通孔在所述基片的彼此相对的第1表面和第2表面具有开口,所述导电层至少设置于所述第1表面且对水的亲和性比所述第2表面低;

第2步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,对所述第2表面滴下含有试样的溶液;

第3步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,使所述试样的成分从所述第2表面侧向所述多个贯通孔内移动,并且使移动到所述多个贯通孔内的所述试样的成分干燥;和

第4步骤,通过一边对所述导电层施加电压一边对所述第1表面照射能量线,来将所述试样的成分离子化,

所述试样支承体具有1个以上的测量区域,

所述测量区域包括多个所述贯通孔,

在所述第2步骤中,对所述测量区域包括的多个所述贯通孔一并滴下所述溶液,

所述多个贯通孔的宽度为1nm~700nm。

2.如权利要求1所述的离子化方法,其特征在于:

在所述第1步骤中,准备在所述第2表面和所述贯通孔的包含所述第2表面侧的缘部的部分的内表面设置有亲水性的覆盖层的所述试样支承体。

3.如权利要求1或2所述的离子化方法,其特征在于:

在所述第1步骤中,准备在所述导电层的与所述基片相反侧的表面设置有对水的亲和性比所述导电层低的疏水性的覆盖层的所述试样支承体。

4.一种离子化方法,其特征在于,包括:

第1步骤,其准备具有基片的试样支承体,其中,所述基片具有导电性且形成有多个贯通孔,所述多个贯通孔在所述基片的彼此相对的第1表面和第2表面具有开口,所述试样支承体的所述第1表面侧的面与所述第2表面侧的面相比对水的亲和性低;

第2步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,对所述第2表面滴下含有试样的溶液;

第3步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,使所述试样的成分从所述第2表面侧向所述多个贯通孔内移动,并且使移动到所述多个贯通孔内的所述试样的成分干燥;和

第4步骤,通过一边对所述基片施加电压一边对所述第1表面照射能量线,来将所述试样的成分离子化,

所述试样支承体具有1个以上的测量区域,

所述测量区域包括多个所述贯通孔,

在所述第2步骤中,对所述测量区域包括的多个所述贯通孔一并滴下所述溶液,

所述多个贯通孔的宽度为1nm~700nm。

5.如权利要求4所述的离子化方法,其特征在于:

在所述第1步骤中,准备在所述第2表面和所述贯通孔的包含所述第2表面侧的缘部的部分的内表面设置有亲水性的覆盖层的所述试样支承体。

6.权利要求4或5所述的离子化方法,其特征在于:

在所述第1步骤中,准备在所述第1表面设置有疏水性的覆盖层的所述试样支承体。

7.如权利要求1~6中任一项所述的离子化方法,其特征在于:

在所述试样支承体设置从所述基片的厚度方向看时相互隔开间隔的多个测量区域,

在所述多个测量区域分别形成有多个所述贯通孔,

在所述第2步骤中,对所述第2表面中的所述多个测量区域分别滴下含有所述试样的溶液,

在所述第4步骤中,对每个所述测量区域照射所述能量线,在每个所述测量区域使所述试样的成分离子化。

8.如权利要求7所述的离子化方法,其特征在于:

所述试样支承体在所述第2表面侧具有支承所述基片的支承基片,

在所述支承基片形成有与所述多个测量区域分别对应地在所述支承基片的厚度方向上贯通的多个贯通部。

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