[发明专利]显示面板、显示装置及显示面板制造方法有效

专利信息
申请号: 201980002085.8 申请日: 2019-10-24
公开(公告)号: CN113272726B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 王龙;杨登科;秦广奎;申润浩;贾南方;孙拓;王志良 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;肯特州立大学
主分类号: G02F1/1334 分类号: G02F1/1334
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾丽波;姜春咸
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 显示装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板,包括上基板、下基板,以及位于所述上基板和所述下基板之间的液晶层,所述液晶层包括液晶和高分子聚合物,其中:

所述显示面板具有多个像素区域,且所述多个像素区域中的至少一个像素区域包括主散射区和辅散射区;位于所述主散射区的第一高分子聚合物具有第一分子聚合度,位于所述辅散射区的第二高分子聚合物具有第二分子聚合度,所述第二分子聚合度小于所述第一分子聚合度;

所述显示面板还包括:位于所述上基板上的上吸收层,所述上吸收层在所述下基板上的正投影与所述辅散射区在所述下基板上的正投影重合;

和/或,位于所述下基板上的下吸收层,所述下吸收层在所述下基板上的正投影与所述辅散射区在所述下基板上的正投影重合。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述主散射区在所述下基板上的正投影的面积与所述至少一个像素区域中的每一个在所述下基板上的正投影的面积之比大于等于50%。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板,其中,所述辅散射区在所述下基板上的正投影为网格,且所述网格的网孔为矩形;所述网孔的任一边长的尺寸范围为5um~100um,任意相邻两个网孔之间的间隔的尺寸范围为5um~100um。

4.根据权利要求1或2所述的显示面板,其中,所述辅散射区包括多个子辅散射区,且所述多个子辅散射区在所述下基板上的正投影相互平行;其中,在所述多个子辅散射区的排列方向上,任一子辅散射区的尺寸范围为5um~100um,且任意相邻两个子辅散射区之间的间隔的尺寸范围为5um~100um。

5.根据权利要求1或2所述的显示面板,还包括位于所述上基板的背向所述液晶层的表面上的上阻挡层,所述上阻挡层完全覆盖所述上基板的背向所述液晶层的表面;

和/或,位于所述下基板的背向所述液晶层的表面上的下阻挡层,所述下阻挡层完全覆盖所述下基板的背向所述液晶层的表面。

6.一种显示装置,包括根据权利要求1~5任一所述的显示面板。

7.根据权利要求6所述的显示装置,还包括多个单色光源,所述多个单色光源被配置为分时向所述显示面板提供不同波长的背光。

8.一种显示面板制造方法,包括:

形成液晶盒,其中,所述液晶盒包括上基板、下基板,以及位于所述上基板和所述下基板之间的液晶层,所述液晶层包括液晶和可聚合材料,且所述液晶层具有多个像素区域;以及

基于阻挡结构,对所述多个像素区域中的至少一个像素区域中的所述可聚合材料进行聚合处理,使所述至少一个像素区域中被所述阻挡结构的图案遮挡的区域形成辅散射区,未被所述阻挡结构的图案遮挡的区域形成主散射区;

其中,所述主散射区中由所述可聚合材料聚合形成的第一高分子聚合物具有第一分子聚合度,所述辅散射区中由所述可聚合材料聚合形成的第二高分子聚合物具有第二分子聚合度,所述第二分子聚合度小于所述第一分子聚合度;

其中,所述阻挡结构为:位于所述上基板上的上吸收层,所述上吸收层在所述下基板上的正投影与所述辅散射区在所述下基板上的正投影重合;和/或,位于所述下基板上的下吸收层,所述下吸收层在所述下基板上的正投影与所述辅散射区在所述下基板上的正投影重合。

9.根据权利要求8所述的显示面板制造方法,其中,所述主散射区在所述下基板上的正投影的面积与所述至少一个像素区域中的每一个在所述下基板上的正投影的面积之比大于等于50%。

10.根据权利要求8或9所述的显示面板制造方法,其中,所述阻挡结构为覆盖在所述上基板和/或所述下基板上的掩膜,且所述掩膜的图案在所述下基板上的正投影与所述辅散射区在所述下基板上的正投影重合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;肯特州立大学,未经京东方科技集团股份有限公司;肯特州立大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980002085.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top