[发明专利]显示基板、制造显示基板的方法和显示设备有效

专利信息
申请号: 201980000649.4 申请日: 2019-05-16
公开(公告)号: CN110622317B 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 李伟;周斌;刘军;刘宁;宋威;桂学海;张晓东;刘融 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 刘悦晗;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 制造 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括:

基底基板;

多个第一电极,其在所述基底基板上成阵列排列;以及

像素限定层,其在所述基底基板上限定多个开口,所述多个开口分别与所述多个第一电极重叠;

其中,所述像素限定层包括多个第一像素限定单元和多个第二像素限定单元;并且

所述多个第一像素限定单元彼此间隔开;

所述多个第一像素限定单元中的一个具有亲液侧面;

所述多个第二像素限定单元中的一个具有疏液侧面;

所述亲液侧面和所述疏液侧面面向同一开口,并且所述亲液侧面位于所述基底基板与所述疏液侧面之间;

所述多个第一像素限定单元中的一个在所述基底基板上的正投影围绕第一开口区域;

所述多个第二像素限定单元中的一个在所述基底基板上的正投影围绕第二开口区域;

所述第一开口区域的面积大于所述第二开口区域的面积;

所述第二像素限定单元的疏液侧面悬于第一像素限定单元的亲液侧面之上,所述第二像素限定单元具有悬垂部分,所述第二像素限定单元的悬垂部分在衬底基板上的正投影覆盖所述第一像素限定单元的亲液侧面在衬底基板上的正投影的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述多个第一像素限定单元在所述基底基板上的正投影与所述多个第一电极在所述基底基板上的正投影分别重叠。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其中,所述多个第一像素限定单元在所述基底基板上的正投影分别位于所述多个第一电极在所述基底基板上的正投影内。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述多个第一像素限定单元由所述多个第二像素限定单元彼此间隔开。

5.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述多个第二像素限定单元彼此直接接触。

6.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述多个第一像素限定单元包括亲液材料,并且所述多个第二像素限定单元包括疏液材料。

7.根据权利要求1所述的显示基板,其中,从所述亲液侧面上的点到所述第一电极的最大距离在约0.5μm至约2μm的范围内。

8.根据权利要求1所述的显示基板,其中,从所述疏液侧面上的点到所述第一电极的最大距离在约0.6μm至约4μm的范围内。

9.一种制造显示基板的方法,包括:

通过构图工艺在基底基板上形成分别位于多个第一电极上的多个第一像素限定层子膜,所述多个第一电极成阵列排列;

形成多个第一像素限定层单元和多个第二像素限定层单元;

其中,所述多个第一像素限定层单元彼此间隔开;

所述多个第一像素限定单元中的一个具有亲液侧面;

所述多个第二像素限定单元中的一个具有疏液侧面;

所述亲液侧面和所述疏液侧面面向同一开口,并且所述亲液侧面位于所述基底基板与所述疏液侧面之间;

所述多个第一像素限定单元中的一个在所述基底基板上的正投影围绕第一开口区域;

所述多个第二像素限定单元中的一个在所述基底基板上的正投影围绕第二开口区域;

所述第一开口区域的面积大于所述第二开口区域的面积;

所述第二像素限定单元的疏液侧面悬于第一像素限定单元的亲液侧面之上,所述第二像素限定单元具有悬垂部分,所述第二像素限定单元的悬垂部分在衬底基板上的正投影覆盖所述第一像素限定单元的亲液侧面在衬底基板上的正投影的至少一部分。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述通过构图工艺在基底基板上形成分别位于多个第一电极上的多个第一像素限定层子膜包括:

在所述基底基板上形成第一电极膜;

在所述第一电极膜上形成第一像素限定层膜;

利用第一掩模对所述第一电极膜和所述第一像素限定层膜构图,从而在所述基底基板上形成分别位于所述多个第一电极上的所述多个第一像素限定层子膜。

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