[实用新型]一种便于调节的镀膜机用上料装置有效
| 申请号: | 201922480727.5 | 申请日: | 2019-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN211309950U | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
| 发明(设计)人: | 蒋国辉 | 申请(专利权)人: | 南京联科镀膜包装材料有限公司 |
| 主分类号: | B65G41/00 | 分类号: | B65G41/00 |
| 代理公司: | 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 | 代理人: | 沈振涛 |
| 地址: | 210000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 便于 调节 镀膜 用上 装置 | ||
本实用新型公开了一种便于调节的镀膜机用上料装置,包括壳体,所述壳体的底部固定安装有底座,所述底座的底部固定安装有支撑脚,所述壳体内部的底面固定安装有两组滑动机构,所述滑动机构滑动安装有底板,所述底板顶部的四个角安装有安装筒体,所述安装筒体内部的底端安装有电动推杆,所述电动推杆输出端通过支撑杆安装有安装板,所述安装板的顶部转动安装有三组料杆。本实用新型设置的滑动机构与底板使装置实现了直线滑动的功能,更是实现了滑动出料的功能,电动推杆与支撑杆使装置实现了自动化升降的功能,工作人员可以根据物料的实际情况进行升降调节,使物料可以达到合适的作业高度。
技术领域
本实用新型涉及镀膜机技术领域,具体为一种便于调节的镀膜机用上料装置。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种,为了可以更好的辅助镀膜机进行作业,则配备相应的上料装置进行辅助上料。
现有的镀膜机用上料装置虽然达到了基本的作业性能,但是仍然存在以下缺陷:1、传统的上料装置整体较为固定,辅助性能较差,无法更好的配合工作人员对物料进行放置以及取料作业,增加了作业时的繁琐性;2、传统上料装置无法根据物料的实际尺寸进行高度调节,导致设备在镀膜作业时的局限性增加,缩小了适用范围,因此需要对此进行改进,以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种便于调节的镀膜机用上料装置以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种便于调节的镀膜机用上料装置,包括壳体,所述壳体的底部固定安装有底座,所述底座的底部固定安装有支撑脚,所述壳体内部的底面固定安装有两组滑动机构,所述滑动机构滑动安装有底板,所述底板顶部的四个角安装有安装筒体,所述安装筒体内部的底端安装有电动推杆,所述电动推杆输出端通过支撑杆安装有安装板,所述安装板的顶部转动安装有三组料杆。
优选的,所述滑动机构的内部转动安装有螺杆,所述滑动机构的背面安装有配合的驱动电机,所述螺杆通过滑动块固定安装有与底板连接的支撑板,所述滑动机构内部的两侧设有导向槽,且导向槽通过导向块与滑动块固定连接。
优选的,所述支撑脚的底部固定安装有支撑座,所述支撑脚之间通过加强杆固定连接。
优选的,所述电动推杆与支撑杆之间通过安装块固定连接,且安装块与安装筒体之间通过导向轨滑动连接。
优选的,所述料杆与安装板之间通过轴承座转动连接,所述料杆上均匀分布有放置杆件。
优选的,所述壳体的背面设有料口,且底板高出于料口的水平面。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、设置的滑动机构与底板使装置实现了直线滑动的功能,更是实现了滑动出料的功能,避免工作人员探入到设备内部进行取料进行上料,使装置更加便于进行调节作业,提高了工作人员作业时的便捷性。
2、设置的电动推杆与支撑杆使装置实现了自动化升降的功能,工作人员可以根据物料的实际情况进行升降调节,使物料可以达到合适的作业高度,以确保镀膜作业的进行,提高了装置的使用性,降低了作业时的局限性。
附图说明
图1为本实用新型的第一内部结构示意图;
图2为本实用新型的第二内部结构示意图;
图3为本实用新型的滑动机构结构示意图。
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