[实用新型]一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台

说明书

本实用新型提供一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，包括箱体式抽风面罩、箱体式操作台面、可活动接杂质抽屉，所述箱体式操作台面与所述箱体式抽风面罩可拆卸连接；所述可活动接杂质抽屉可拆卸设置于所述箱体式操作台面的底部。本实用新型的单晶炉热场石墨件清理打磨平台，具有可拆卸式的抽风面罩、操作台面和杂质抽屉，清理打磨石墨件产生的粉尘经集中抽风系统抽吸，大颗粒杂质掉入杂质抽屉中，避免粉尘飞扬、污染工作坏境。该清理打磨平台通过四氟材料对石墨件进行隔离，避免了与金属直接接触；粉尘和大颗粒杂质分开处理，降低了吸尘管路堵塞的风险，有效地改善了热场清理打磨的工作坏境，保持环境洁净度，提高工作效率。

技术领域

本实用新型属于单晶生长炉内部石墨热场件的打磨清理工作领域，尤其是涉及一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台。

背景技术

在惰性气体环境中，单晶炉设备通过石墨加热器及其他石墨件将多晶硅等多晶材料在高温下熔化成溶液，并采用直拉法生长无错位单晶。其中单晶炉热场是单晶炉中的必备部件，主要由柱状等静压石墨加工而成。单晶炉热场件在运行完一炉后，需要对单晶炉内的石墨件进行拆清处理，清除附着在石墨件上的碳化硅、硅蒸汽、黄色氧化物等杂质。如果石墨件有溅硅，则需要进行打磨处理。

目前，在清理石墨件上附着杂质时，操作人员是在热场打磨清理间内作业，主要采用百洁布和手持式角磨机。然而在擦拭与打磨碳化硅、硅蒸汽、黄色氧化物等杂质时，容易产生较多粉尘，导致清理作业坏境较差，工作间石墨粉污染较重。

在石墨件打磨清理完成后，还需要将其表面的石墨粉及其他粉尘清理干净，目前是使用纤维纸蘸取酒精对石墨件表面进行整体擦拭。这样的清理方法导致石墨件表面清理质量较差，无法达到拆清质量的要求。

实用新型内容

针对现有的石墨件清理打磨存在的不足，本实用新型旨在提供一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种单晶炉热场石墨件清理打磨平台，包括：

箱体式抽风面罩；

箱体式操作台面，所述箱体式操作台面与所述箱体式抽风面罩可拆卸连接；

可活动接杂质抽屉，所述可活动接杂质抽屉可拆卸设置于所述箱体式操作台面的底部。

所述箱体式抽风面罩上设置有抽风口，所述抽风口与集中抽风系统连接。

进一步地，所述箱体式抽风面罩的侧壁铺设有侧壁筛网，所述侧壁筛网与所述集中抽风系统贯通。

更进一步地，所述侧壁筛网包括不锈钢网和四氟网板，所述不锈钢网与所述四氟网板叠加铺设，所述四氟网板设置于靠近所述箱体式操作台面的一侧。

更进一步地，所述箱体式操作台面设置有用于吹扫石墨件上粉尘的氮气吹扫真空枪，所述粉尘在所述集中抽风系统的作用下通过所述抽风口和所述侧壁筛网。

所述箱体式操作台面上铺设有用于筛漏大颗粒杂质的台面筛网，所述台面筛网下设置有倒梯形漏口。

进一步地，所述台面筛网包括不锈钢网和四氟网板，所述不锈钢网与所述四氟网板叠加铺设，所述不锈钢网设置于靠近所述倒梯形漏口的一侧。

更进一步地，所述可活动接杂质抽屉设置于所述倒梯形漏口的下方。

由于采用上述技术方案，本实用新型的单晶炉热场石墨件清理打磨平台，具有可拆卸式的抽风面罩、操作台面和杂质抽屉，清理打磨石墨件产生的粉尘经集中抽风系统抽吸，大颗粒杂质掉入杂质抽屉中，避免粉尘飞扬、污染工作坏境。该清理打磨平台通过四氟材料对石墨件进行隔离，避免了与金属直接接触；粉尘和大颗粒杂质分开处理，降低了吸尘管路堵塞的风险，有效地改善了热场清理打磨的工作坏境，保持环境洁净度，提高工作效率。

附图说明