[实用新型]一种避免二次损伤的侧脑室穿刺定位仪

说明书

本实用新型公开了一种避免二次损伤的侧脑室穿刺定位仪，包括基座，基座包括下部的基座环和两条弧形的平行导轨，导轨与基座环垂直设置，所述导轨的表面设置有刻度线；两条导轨之间安置有导管，所述导管的头部与导轨下部卡接，导管上嵌套有滑块，滑块下部与导轨上部贴合，滑块表面设置有与导轨表面刻度线相配合的指针；导管上还设置有锁紧件；所述导管一侧设置有开口，置于导管上的滑块和锁紧件均设置有与导管开口位置相匹配的开口，置于导管内的引流管能够通过导管、滑块、锁紧件的开口取出。该侧脑室穿刺定位仪既能提升医生可操作性，增加导轨精度和利用率，又能避免二次损伤，减少手术操作步骤，降低感染和癫痫发生的风险。

技术领域

本实用新型涉及医疗设备技术领域，具体是指一种避免二次损伤的侧脑室穿刺定位仪。

背景技术

脑室穿刺（VC）是脑积水的重要治疗方法，定位仪的主要作用是针对脑积水进行术前的定位。在进行侧脑室穿刺手术时，首先消毒铺巾，接着在额角的位置钻孔，即冠状缝前2cm，中线旁开2~3cm处，然后在孔面上放置定位仪，以指导引流管穿刺，定位仪的导轨平行于冠状面。在穿刺入脑室后，由于引流管上有垂直适配器的存在，无法直接取下，需要将将引流管拔出后才能将现有穿刺仪取下，再次沿原穿刺路径植入引流管，这无疑增加了手术步骤，对大脑造成了二次穿刺损伤，同时也延长了手术时间，增加感染和癫痫发生的风险。现有穿刺仪基座的导轨可滑动范围较大，在有限宽度的基座上，可利用的滑动宽度相对较小，滑动一定距离对应的角度较大，精度相对较低，降低了医生在安全范围内的可操作性，提高了手术风险，亟需进一步改进。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种既能提升医生可操作性，增加导轨精度和利用率，又能避免二次损伤，减少手术操作步骤，降低感染和癫痫发生的侧脑室穿刺定位仪。

为了实现上述目的，本实用新型通过下述技术方案实现：一种避免二次损伤的侧脑室穿刺定位仪，包括基座，所述基座包括下部的基座环和两条弧形的平行导轨构成，所述导轨与基座环垂直设置，所述导轨的表面设置有刻度线；两条导轨之间安置有导管，所述导管的头部与导轨下部卡接，导管上嵌套有滑块，所述滑块下部与导轨上部贴合，滑块表面设置有与导轨表面刻度线相配合的指针；所述导管上还设置有锁紧件；所述导管一侧设置有开口，置于导管上的滑块和锁紧件均设置有与导管开口位置相匹配的开口，置于导管内的引流管能够通过导管、滑块、锁紧件的开口取出。

本技术方案提供了一种用于侧脑室穿刺手术时使用的定位仪，在使用该定位仪进行侧脑室穿刺手术后，由于在导管、滑块、锁紧件侧壁均设置有开口，因此，插入侧脑室的引流管可以通过导管、滑块、锁紧件侧壁的开口，从定位仪中取出，这样便能够在不拔出引流管的情况下，拆除定位仪器，避免引流管端部垂直适配器的影响，直接用第一次穿刺使用的引流管继续完成侧脑室穿刺手术。

为了更好地实现本实用新型，进一步地，所述基座中导轨的弧度为120°，所述导轨表面的刻度线的刻度区间为-60~60°，且刻度线的最小刻度为5°，其中5°单倍刻度线为半线，10°倍数刻度线为全线。

为了更好地实现本实用新型，进一步地，所述基座环下部设置有至少三个均匀分布的支撑脚，其中一个支撑脚置于两条导轨之间。

为了更好地实现本实用新型，进一步地，所述导管从下至上依次包括头部、嵌合部、锁紧部、操作部；所述头部两端对称设置有凸台，所凸台上表面为弧面，且与导轨下部紧密贴合，两者之间能够发生相对滑动；所述嵌合部能够与滑块下部嵌合，使得滑块与导管相对固定；所述锁紧部与锁紧件配合，使得导管与基座相对固定；所述操作部向上延伸，用于调整导管与基座的角度。

为了更好地实现本实用新型，进一步地，所述滑块包括上部的滑动块与下部嵌合块，所述滑动块与嵌合块呈一体结构；滑动块下部为与导轨上表面贴合的弧面，滑动块的外表面设置有与导轨表面刻度线相配合的指针；所述嵌合块与导管的嵌合部相配合，将滑块与导管固定在一起。