[实用新型]一种简笔画临摹装置有效
| 申请号: | 201922451747.X | 申请日: | 2019-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN211149767U | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
| 发明(设计)人: | 刘伟;彭劲 | 申请(专利权)人: | 湖南中医药大学 |
| 主分类号: | G09B11/10 | 分类号: | G09B11/10;G09B11/06 |
| 代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 曾志鹏 |
| 地址: | 410000 湖南省长沙市岳麓*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 简笔画 临摹 装置 | ||
1.一种简笔画临摹装置,其特征在于,该简笔画临摹装置包括机架1、设置在机架1上的背光板2和设置在背光板2上方的临摹底板3,所述背光板2的上表面设有光源,临摹的目标画设置在背光板2的上表面上,所述临摹底板3采用透明材料制作,绘画的白纸设置在临摹底板3的上表面。
2.根据权利要求1所述的简笔画临摹装置,其特征在于,所述光源为多个均匀布置的LED灯珠组合而成。
3.根据权利要求2所述的简笔画临摹装置,其特征在于,所述LED灯珠组合的光源上方设有一个透明的隔离板,临摹的目标画设置在隔离板上部。
4.根据权利要求1所述的简笔画临摹装置,其特征在于,所述临摹底板3包括两层透明的板体,两层透明的板体之间存在间隙,所述简笔画临摹装置还包括可抽离的设置在间隙中的刻画板,所述刻画板上设有辅助临摹的刻画线。
5.根据权利要求4所述的简笔画临摹装置,其特征在于,所述刻画板包括透明材质制作的基板和设置在基板上的刻画线。
6.根据权利要求4所述的简笔画临摹装置,其特征在于,所述刻画板的宽度等于板体的宽度,所述刻画板的长度大于板体的长度,所述刻画板的长度方向的一边上设有T形的辅助条,T形的辅助条的厚度大于间隙的厚度。
7.根据权利要求1所述的简笔画临摹装置,其特征在于,所述机架1包括四个相互平行的支撑脚和设置在支撑脚上端的台面板。
8.根据权利要求7所述的简笔画临摹装置,其特征在于,所述支撑脚为可伸缩的伸缩杆。
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