[实用新型]进窑炉前清洁上釉装置

权利要求书

1.一种进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于，依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构；还包括传送架，传送架包括支架和设置在支架上传送带；清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。

2.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述清洁机构包括中空的除尘壳，除尘壳的下部开口，除尘口的顶部开设有气口，除尘壳上固定有与气口连通的负压泵，还包括固定在支架上的风机，风机的出口朝向传送带。

3.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述第一翻转机构和第二翻转机构均包括若干转动架，转动架通过支撑轴固定连接，支撑轴上固定有若干驱动件，驱动件的下方设置有固定在驱动件的输出轴上的压板，压板下方设置有第二传送带，其中一个传送架的外侧壁固定有从齿轮，从齿轮啮合有主齿轮，主齿轮由驱动件驱动。

4.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述喷雾机构包括中空的喷雾罩，喷雾罩的下部开口，喷雾罩上固定有朝向传送带的喷雾喷头。

5.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述上釉机构包括中空的喷釉壳，喷釉壳的下部开口，喷釉壳上固定有朝向传送带的喷釉喷头。

6.根据权利要求5所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述喷釉壳下方设置有固定在支架上的倾斜板，倾斜板上固定有第二喷釉喷头。

7.根据权利要求6所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述倾斜板的下方设置有釉料收集箱，釉料收集箱的上部设置有接收口。

8.根据权利要求2所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述除尘壳的横截面为梯形，梯形的下部直径大于下部直径。

9.根据权利要求3所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述压板的下表面固定有缓冲层。

10.根据权利要求3所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述转动架至少为两个。