[实用新型]耐磨的AG+AR+AF玻璃

说明书

本实用新型公开了一种耐磨的AG+AR+AF玻璃，包括玻璃基材，其上依次设有防眩光膜、增透膜和防指纹膜，增透膜层包括SiO₂和Si₃N₄层，Si₃N₄层位于SiO₂与防指纹膜之间。所述Si₃N₄层的厚度为5nm以上。本实用新型将增透膜AR的表面设置Si₃N₄层，使其与防指纹膜AF接触，AF与Si₃N₄是化学键结合，Si₃N₄兼具硬度高和与AF易结合的优点，大幅提升AG+AR+AF玻璃的耐磨性能。

技术领域

本实用新型涉及一种耐磨的AG+AR+AF玻璃。

背景技术

随着户外和车载显示的发展，同时具备抗眩光、高透光及防指纹的AG+AR+AF盖板备受人们青睐。但不耐磨的特点制约着AG+AR+AF的应用范围。

目前AG+AR+AF膜系结构中，采用新科隆RAS溅射镀膜机在AG玻璃上叠加多层Si₃N₄和SiO₂的AR膜系结构，表层SiO₂，如图1所示，再真空蒸发镀AF。但是SiO₂膜层硬度不如玻璃，导致AG+AR+AF耐磨性能不如AG+AF。RAS镀膜技术的核心是，镀膜过程的氧化还原反应被控制在玻璃基板表面，能大幅提升膜层与基板的附着力、膜层与膜层的附着力，并能使膜层处于微结晶状态，膜层拥有蒸发镀膜和普通磁控溅射镀膜无法比拟的硬度。将氧化还原反应控制基板上发生，当前只有Batch式单腔体非连续镀膜设备上能够实现。单腔镀膜机如图2所示，玻璃基板随着转筒高速旋转，每转一圈镀在基板上的Si材料不超过一个分子层，N+或O+离子可以将其完全氮/氧化。而连续镀膜机，玻璃在多腔室里面传送，每经过一个阴极镀制的材料有数个分子层（如果控制一个分子层以内，生产效率极低），无法再被完全N+或O+离子氮/氧化。故采用RAS技术产能很低，无法应用到高效率的连续式镀膜线。

另外，还有一种方案是通过在AR的表层SiO₂表面增镀金刚石膜DLC或石墨，膜系结构如图3所示，实现AR表层超硬目的。但类金刚石膜DLC和石墨成分为碳，碳与AF无法用化学键结合，两者只能物理吸附，摩擦测试时AF极易脱落。AF与AR中间附着力很差，耐磨测试出现AF脱落和AR层无损伤的现象。故虽然AR耐磨，但AF脱落后造成玻璃表面抗污能力下降和颜色变化，至今无法得到广泛应用。

发明内容

本实用新型提供一种耐磨的AG+AR+AF玻璃，在AR表面增加Si₃N₄膜层，利用Si₃N₄兼具硬度高和与AF易结合的优点，大幅提升AG+AR+AF玻璃的耐磨性能。

本实用新型的技术方案是，一种耐磨的AG+AR+AF玻璃，包括玻璃基材，其上依次设有防眩光膜、增透膜和防指纹膜，增透膜层包括SiO₂和Si₃N₄层，Si₃N₄层位于SiO₂与防指纹膜之间。

进一步地，所述Si₃N₄层的厚度为5nm以上。

进一步地，增透膜层靠防眩光膜侧为SiO₂层，靠防指纹膜侧为Si₃N₄，中间依次叠加Si₃N₄层和SiO₂层。