[实用新型]一种瓷砖上釉釉盘有效
| 申请号: | 201922395123.0 | 申请日: | 2019-12-27 |
| 公开(公告)号: | CN211517897U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
| 发明(设计)人: | 刘云;黎斌;杨怀静;陈雪阳 | 申请(专利权)人: | 湖北安广陶瓷有限公司 |
| 主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04 |
| 代理公司: | 重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙) 50213 | 代理人: | 罗庆 |
| 地址: | 444200 *** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 瓷砖 上釉 | ||
本实用新型公开了一种瓷砖上釉釉盘,包括支撑杆及圆锥状的釉盘,所述支撑杆中心通过轴承安装有转动轴,所述釉盘的顶端中心通过轴承转动连接在转动轴上,转动轴上固定连接有圆块,所述圆块位于釉盘下,用于支撑釉盘,转动轴的顶端固定连接有锥台,所述锥台位于釉盘上方,转动轴上还固定连接有转动盘,所述转动连接有第一电机,所述第一电机固定在支撑杆上,用第一电机带动旋转的锥台对从下釉口落下的釉浆进行旋转,由旋转的锥台对釉浆的厚度进行重新分配,流到釉盘上各个点上的釉浆量更加均匀,从釉盘上流下的釉浆厚度更加均匀,进而使瓷片的上釉厚度一致,提高了整体瓷片的上釉质量,外观更加美观,增加了市场竞争力。
技术领域
本实用新型涉及陶瓷加工设备技术领域,具体涉及一种瓷砖上釉釉盘。
背景技术
现有技术给瓷片上釉有较多种方式,其中一种方式是通过向圆盘状的釉盘上浇上釉浆,釉浆从釉盘的边缘落在从釉盘下经过的瓷片上,完成上釉工序,但从下釉口流出的釉浆由于空气上升的影响,落在釉盘上的釉浆厚度不均,使同批次的瓷片上的釉浆厚不一致,从而降低瓷片上釉的质量,影响外观。
实用新型内容
本实用新型要解决的问题是针对现有技术中所存在的上述不足而提供一种瓷砖上釉釉盘,通过在釉盘的上方设置由第一电机带动旋转的锥台对从下釉口落下的釉浆进行旋转,由旋转的锥台对釉浆的厚度进行重新分配,使从釉盘上流下的釉浆厚度均匀,来解决现有技术中存在的上述问题。
为实现上述目的,本实用新型采用了如下的技术方案:
一种瓷砖上釉釉盘,包括支撑杆及圆锥状的釉盘,所述支撑杆中心通过轴承安装有转动轴,所述釉盘的顶端中心通过轴承转动连接在转动轴上,转动轴上固定连接有圆块,所述圆块位于釉盘下,用于支撑釉盘,转动轴的顶端固定连接有锥台,所述锥台位于釉盘上方,转动轴上还固定连接有转动盘,所述转动连接有第一电机,所述第一电机固定在支撑杆上。
相比于现有技术,本实用新型具有如下有益效果:
在支撑杆上通过轴承转动连接转动轴,并使用轴承将转动轴与釉盘转动连接,转动轴上固定连接圆块,用圆块来支撑釉盘使釉盘限制在转动轴上固定的位置,转动轴的顶端固定连接锥台,转动轴传动连接第一电机,用第一电机带动旋转的锥台对从下釉口落下的釉浆进行旋转,由旋转的锥台对釉浆的厚度进行重新分配,流到釉盘上各个点上的釉浆量更加均匀,从釉盘上流下的釉浆厚度更加均匀,进而使瓷片的上釉厚度一致,提高了整体瓷片的上釉质量,外观更加美观,增加了市场竞争力。
附图说明
图1为本实用新型实施例一顶视结构示意图。
图2为本实用新型实施例一剖切结构示意图。
图3为本实用新型实施例二顶视结构示意图。
图4为本实用新型实施例二剖切结构示意图。
图中:支撑杆1、第一电机11、第二电机12、旋转盘13、安装孔14、转动轴2、圆块21、锥台22、滤网221、转动盘23、釉盘3、挡块31、挡体32、连接杆321、连接孔322、倒钩323。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与作用更加清楚及易于了解,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步阐述:
实施例一:
如附图1、附图2所示,一种瓷砖上釉釉盘,包括支撑杆1及圆锥状的釉盘3,所述支撑杆1中心通过轴承安装有转动轴2,所述釉盘3的顶端中心通过轴承转动连接在转动轴2上,转动轴2上固定连接有圆块21,所述圆块21位于釉盘3下,用于支撑釉盘3,转动轴2的顶端固定连接有锥台22,所述锥台22位于釉盘3上方,转动轴2上还固定连接有转动盘23,所述转动连接有第一电机11,所述第一电机11固定在支撑杆1上;
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