[实用新型]一种半导体硅材料生长炉的石墨伸缩气管及生长炉有效

专利信息
申请号: 201922373941.0 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN211734530U 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 李辉;张熠;郑锴;秦英谡;穆童 申请(专利权)人: 南京晶升能源设备有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B11/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 张弛
地址: 211113 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 材料 生长 石墨 伸缩 气管
【权利要求书】:

1.一种半导体硅材料生长炉的石墨伸缩气管,其特征在于,包括顶盖、气管外筒、气管中筒、气管内筒、底托;所述气管内筒收容于气管中筒内,气管中筒收容于气管外筒中,顶盖与气管外筒的上端固定,底托与气管内筒的底端固定;

气管外筒的底部内壁向内凸有第一内台阶;气管中筒的顶部外壁向外凸有第一外台阶,当气管中筒相对气管外筒向下移动时,第一内台阶与第一外台阶相互抵靠;

气管中筒的底部内壁向内凸有第二内台阶;气管内筒的顶部外壁向外凸有第二外台阶,当气管内筒相对气管中筒向下移动时,第二内台阶与第二外台阶相互抵靠。

2.根据权利要求1所述的石墨伸缩气管,其特征在于:所述顶盖上方连接有中空的上罩,所述顶盖具有顶部开口,顶部开口、上罩与气管外筒连通。

3.根据权利要求1或2所述的石墨伸缩气管,其特征在于:所述底托下方连接有中空的坩埚盖,坩埚盖具有底部开口,底部开口、气管内筒与坩埚盖连通。

4.根据权利要求3所述的石墨伸缩气管,其特征在于:所述坩埚盖下方连接有气罩。

5.一种具有如权利要求1至4中任一项所述石墨伸缩气管的生长炉,其特征在于:包括坩埚,所述坩埚位于气罩中并与气罩固定。

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