[实用新型]一种CVD装置尾气处理装置有效
申请号: | 201922351867.2 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN211514050U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 丁桃宝;吴啸;周琛怿 | 申请(专利权)人: | 苏州晋宇达实业股份有限公司 |
主分类号: | B01D53/75 | 分类号: | B01D53/75;B01D53/74;B01D53/38;B01D53/18;B01D53/04;B01D50/00 |
代理公司: | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 | 代理人: | 李宏伟 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 cvd 装置 尾气 处理 | ||
本实用新型涉及半导体制造领域,尤其涉及一种CVD装置尾气处理装置,该处理装置可以增大尾气与水的接触面积,且采用水幕与吸附结构相结合的方式对尾气进行处理,有效解决以往仅通过水幕处理效果不佳的问题。包括高温反应桶,所述的高温反应桶顶部设有进气管,所述的高温反应桶底部通过第一连接管与第一处理桶右侧相连通;所述的第一处理桶顶部通过第二连接管与第二处理桶的右端部相连接;所述的第一喷淋管上方的第一处理桶中设有第一吸附装置,所述的第二处理桶中间部分还设有竖向的第二吸附装置。它操作简单,使用方便,适用于多种场所。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造领域,具体为一种CVD装置尾气处理装置。
背景技术
随着科技的进步,社会的发展,我国的电子技术得到了快速发展,随之而来的是半导体技术的快速发展。在CVD半导体制作工艺中,会排出大量的尾气,尾气中含有大量有害物质,如果不对其进行处理,将会对工作人员和周围环境产生极大的危害。
现有的尾气处理装置,通常是采用喷淋装置,现有的喷淋装置,通常是在喷水管底部产生水幕,通过水幕与尾气进行接触,然而,在实际应用过程中,现有的喷淋装置不能将水与尾气充分混合,因为而处理效果不佳。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种CVD装置尾气处理装置,该处理装置可以增大尾气与水的接触面积,且采用水幕与吸附结构相结合的方式对尾气进行处理,有效解决以往仅通过水幕处理效果不佳的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种CVD装置尾气处理装置,包括高温反应桶,所述的高温反应桶顶部设有进气管,其特征在于:所述的高温反应桶底部通过第一连接管与第一处理桶右侧相连通,所述的第一处理桶整体呈竖向的长方体状,且第一处理桶固定设有上下开口的矩形固定框,所述的矩形固定框边沿与第一处理桶内表面固定连接,所述的矩形固定框内设有若干内外纵向的支杆,支杆将矩形固定框分隔为若干矩形通孔,所述的矩形通孔中分别内外纵向设有转轴,所述的转轴左右排列设置,内外两端部分别与矩形固定框转动连接,所述的转轴上分别固定设有卷辊,所述的卷辊外表面均匀固定设有若干第一过滤网,相邻的第一过滤网外端部相接触;所述的矩形固定框上侧的第一处理桶内表面固定设有第一喷淋管,所述的第一喷淋管底部设有若干第一喷头,所述的第一喷头分别位于两个转轴中间位置的正上方,第一喷淋管与外侧的输水管相连接,所述的输水管上设有增压泵,所述的第一连接管下方的第一处理桶上设有第一排液管,所述的第一排液管上设有第一控制阀;
所述的第一处理桶顶部通过第二连接管与第二处理桶的右端部相连接,所述的第二处理桶整体呈横向的长方体状,所述的第二处理桶内顶部设有第二喷淋管,所述的第二喷淋管底部设有若干第二喷头,第二处理桶左端部设有排气口,排气口下方设有第二排液管,第二排液管上设有第二控制阀,第二喷淋管通过第三连接管与增压泵后侧的输水管相连接;
所述的第一喷淋管上方的第一处理桶中设有第一吸附装置,所述的第二处理桶中间部分还设有竖向的第二吸附装置。
优选的,所述的第一过滤网为矩形固定片,所述的矩形固定片上均匀固定设有若干圆形通孔。
优选的,所述的矩形固定框上下侧面分别设有固定板,所述的固定板通过螺栓与第一处理桶固定连接。
优选的,所述的第一吸附装置和第二吸附装置结构相同,包括中空长方体状的第二过滤网,所述的第二过滤网中设有空心球。
优选的,所述的第二过滤网边沿分别设有固定块,所述的固定块通过螺栓与第一处理桶和第二处理桶相连接。
优选的,所述的空心球为多面体空心球。
与现有技术相比,本实用新型提供了一种CVD装置尾气处理装置,具备以下有益效果:
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