[实用新型]一种偏光片用高性能离型膜有效
| 申请号： | 201922351710.X | 申请日： | 2019-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN211763903U | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 顾长均;邓浩鹏 | 申请（专利权）人： | 东莞市鼎力薄膜科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B7/06 | 分类号： | B32B7/06;B32B27/06;B32B27/08;B32B27/28;B32B27/30;B32B27/32;B32B27/36;B32B27/38;B32B27/40;B32B33/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 张艳美;侯柏龙 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 偏光 片用高 性能 离型膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种偏光片用高性能离型膜，其特征在于，包括基材层，于所述基材层的至少一面设有电晕层，于所述电晕层的上表面设有修复层，于所述修复层的上表面设有硅油层，于所述硅油层的上表面设有平流层。
2.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述硅油层的厚度小于所述电晕层的厚度。
3.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述基材层的厚度为10-100um。
4.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述电晕层的厚度为5-8um。
5.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述修复层的厚度为3-10um。
6.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述硅油层的厚度为2-4um。
7.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述平流层的厚度为3-10um。
8.根据权利要求1所述的偏光片用高性能离型膜，其特征在于，所述平流层的制备材料为低粘性聚乙烯蜡、中粘性聚乙烯蜡或氧化蜡中的一种。
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