[实用新型]一种用于晶硅的清洁机构

权利要求书

1.一种用于晶硅的清洁机构，其特征在于，包括相对设置的两挡板，两挡板之间沿着晶硅的输送方向上依次设有喷雾清洗装置、擦拭装置、粘附装置和去静电装置，且在挡板上设置安装孔，便于更换所述粘附装置；

所述喷雾清洗装置通过固定板设置在两挡板之间，所述固定板的两端分别与挡板固连，所述喷雾清洗装置包括喷嘴和连接管，所述喷嘴竖直向上设置，其一端通过连接管与清洁液相连通；

所述擦拭装置包括两个平行设置的滚筒和套设在两滚筒之间的无纺布环，且所述滚筒与挡板相垂直设置，滚筒的两端套设轴承并通过轴承固定座与两挡板固定连接，所述滚筒的一端与驱动装置相连接以驱动滚筒转动；

所述粘附装置包括上滚筒和下滚筒，所述下滚筒位于上滚筒的下方且其与上滚筒相抵，所述上滚筒的两端通过滚筒固定座与挡板固连，且所述上滚筒与滚筒固定座可转动连接，所述下滚筒通过快换组件与挡板相连接；所述去静电装置采用离子风刀，所述离子风刀的两端与挡板固连，所述离子风刀的出风口竖直向上设置。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶硅的清洁机构，其特征在于，所述快换组件包括连接板和位于连接板两端平行设置的固定片，所述下滚筒的外围套设有粘尘纸，下滚筒的转轴通过弹性支撑块与连接板固定连接，所述弹性支撑块包括弹簧和与弹簧固连的支撑块，所述支撑块的一侧与下滚筒的转轴活动连接，其下表面与弹簧的一端固连，所述弹簧的另一端与连接板固连，且所述弹性支撑块与固定片相抵。

3.根据权利要求2所述的一种用于晶硅的清洁机构，其特征在于，所述固定片包括第一固定片和第二固定片，第一固定片和第二固定片的内侧均与弹性支撑块相抵，所述第一固定片的外侧垂直的设置有多个搭接条，且搭接条的另一端固定有挡片，与第一固定片相对的挡板上设置有与搭接条相配合的安装孔，所述第二固定片的外侧设置有固定柱与对应的挡板相搭接。