[实用新型]一种保持环

说明书

本实用新型提供一种保持环，所述保持环通过在弹性环上设置环形凹槽，并沿所述环形凹槽中心向里设置有燕尾槽，其中，环形凹槽与刚性环上的环形凸起通过粘接剂粘接，增加了粘接面积；而燕尾槽能够让粘接剂进入其中，粘接剂固化后可以加强横向拉力，不容易脱胶，使弹性环和刚性环粘接更牢固，从而提高了保持环的使用寿命；同时所述保持环结构简单，加工容易，具有良好的应用前景。

技术领域

本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，尤其涉及一种保持环。

背景技术

集成电路一般通过在硅衬底上有序地沉积导电、半导电或者绝缘的层来形成于衬底之上。其中一个工艺步骤涉及在非平面的表面上沉积填充层，并平面化该填充层直至暴露出所述非平面表面。例如，可以在被图案化的绝缘层上沉积导电填充层，以填充绝缘层中的沟槽或孔。然后抛光填充层，直至暴露出绝缘层的隆起图案。平面化之后，留在绝缘层的隆起图案之间的导电层部分形成通道、插头和线，为衬底上的薄膜电路之间提供导电通路。另外，需要平面化来为光刻平面化衬底表面。

化学机械抛光(CMP)是一种被普遍使用的平面化方法，在化学机械抛光时，抛光头夹持着晶圆，并将晶圆压紧在抛光垫上。晶圆在抛光时容纳在抛光头上的保持环之中，保持环起着容纳和定位晶圆的作用。在抛光过程中，抛光液和去离子水不断的与保持环接触，因此保持环需要具有一定的耐腐蚀性。

现有保持环是通过特定的粘接剂将用刚性材料环和用弹性材料环粘接在一起形成的保持环，而此种结构，不仅粘接面积小，使用过程中容易出现脱胶现象，而且在抛光过程中，粘接面上的粘接剂容易与外界去离子水、抛光液等化学物质直接接触，因此经若干个抛光周期后，由于化学溶液的腐蚀作用，粘接面的粘接剂损坏，上下两层材料脱开，降低了保持环寿命，因此，针对提高保持环的寿命有较多研究。

CN105773402A公开了一种保持环的制作方法，通过将保持环上磨损了的树脂环拆除并替换上新的树脂环，从而一定程度上节约了材料，但该方法未考虑到现有树脂环与不锈钢环的粘接问题。

CN209425232U公开了一种的新的保持环，通过在不锈钢制成的环状体外包裹塑料层，环状体的表面设有多个条状凹槽，在通过注塑机进行注塑后来提高保持环的使用寿命，但该保持环结构复杂，加工难度大。

CN205734411U公开了一种用于抛光系统的保持环，所述保持环同样结构复杂，加工难度大。

因此，急需开发一种结构简单且不易脱胶、粘接牢固的保持环。

实用新型内容

鉴于现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种保持环，所述保持环通过在弹性环上设置环形凹槽，并沿所述环形凹槽中心向里设置有燕尾槽，能够让粘接剂进入燕尾槽中，弹性环的环形凹槽与刚性环的环形凸起通过粘接剂粘接且粘接剂固化后可以加强横向拉力，不容易脱胶，使弹性环和刚性环粘接更牢固，提高了保持环的使用寿命，同时该保持环结构简单，加工容易，具有较高的工业应用价值。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供一种保持环，所述保持环包括弹性环和刚性环；所述弹性环上设置有环形凹槽，沿所述环形凹槽中心向里设置有燕尾槽；所述刚性环上设置有与弹性环的环形凹槽相匹配的环形凸起。

本实用新型提供的保持环通过弹性环上的环形凹槽和刚性环上的环形凸起粘接，增加了弹性环与刚性环件的粘接面积，并沿所述环形凹槽中心向里设置有燕尾槽，使粘接剂进入燕尾槽中，加强了横向拉力，不容易脱胶；而且位于燕尾槽、环形凸起与环形凹槽间隙之间的粘接剂在抛光过程中不易于抛光液和去离子水等化学物质接触，能够有效防止粘接剂在抛光过程中被腐蚀，从而提高了保持环的使用寿命，同时该保持环结构简单，加工容易，能够较好地应用在抛光技术领域中。