[实用新型]一种埃米抗氧化抗红外光带图案镜片有效

专利信息
申请号: 201922277940.6 申请日: 2019-12-18
公开(公告)号: CN210982787U 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 杨敏男;吴富章 申请(专利权)人: 厦门美澜光电科技有限公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G02B5/28;G02C7/02;G02C7/10
代理公司: 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 代理人: 刘小勤
地址: 361022 福建省厦门市海*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 埃米抗 氧化 红外 光带 图案 镜片
【权利要求书】:

1.一种埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片包括基片和设置在所述基片表面的膜层,所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案抗氧化层和抗红外光层,其中:所述图案抗氧化层由图案和第四抗氧化薄膜层组成,其中所述第四抗氧化薄膜层与所述抗红外光层紧邻;所述图案抗氧化层中的图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种;所述图案抗氧化层中的第四抗氧化薄膜层为硒层、镍层或者硒层和镍层的组合层;所述抗红外光层由高折射率薄膜层和低折射率薄膜层交替组成。

2.根据权利要求1所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述膜层覆盖在所述基片的外表面。

3.根据权利要求1所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述基片为亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。

4.根据权利要求1所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述打底层由低折射率薄膜层和高折射率薄膜层交替组成,其中所述低折射率薄膜层与所述图案抗氧化层紧邻;所述高折射率层为ZrO2层、Ti3O5层或Ta2O5层中的任意一种;所述低折射率层为SiO2层、硅铝混合物层或MgF2层中的任意一种。

5.根据权利要求1-4中任一项所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述打底层由第一低折射率薄膜层、第二高折射率薄膜层和第三低折射率薄膜层组成,其中所述第一低折射率薄膜层与所述基片紧邻,所述第三低折射率薄膜层与所述图案抗氧化层紧邻。

6.根据权利要求5所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述抗红外光层由依次层叠的第五高折射率薄膜层、第六低折射率薄膜层、第七高折射率薄膜层、第八低折射率薄膜层、第九高折射率薄膜层、第十低折射率层、第十一高折射率层和第十二低折射率层组成,其中所述第五高折射率薄膜层与所述图案抗氧化层紧邻。

7.根据权利要求6所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述打底层中第一低折射率薄膜层的厚度为50-150埃米,第二高折射率薄膜层的厚度为100-300埃米,第三低折射率薄膜层的厚度为50-150埃米;所述图案抗氧化层中第四抗氧化薄膜层的厚度为100-400埃米;所述抗红外光层中第五高折射率薄膜层、第六低折射率薄膜层、第七高折射率薄膜层、第八低折射率薄膜层、第九高折射率薄膜层、第十低折射率薄膜层、第十一高折射率薄膜层、第十二低折射率薄膜层的厚度依次为200-500埃米、1000-1300埃米、650-950埃米、1000-1300埃米、500-900埃米、1000-1400埃米、550-950埃米、300-950埃米。

8.根据权利要求7所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述打底层中第一低折射率薄膜层的厚度为100埃米,第二高折射率薄膜层的厚度为200埃米,第三低折射率薄膜层厚度为100埃米;所述图案抗氧化层中第四薄膜层的厚度为300埃米;所述抗红外光层中第五高折射率薄膜层、第六低折射率薄膜层、第七高折射率薄膜层、第八低折射率薄膜层、第九高折射率薄膜层、第十低折射率薄膜层、第十一高折射率薄膜层、第十二低折射率薄膜层的厚度依次为350埃米、1150埃米、850埃米、1150埃米、800埃米、1200埃米、750埃米、600埃米。

9.根据权利要求1-4任一项所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:还包括保护层,所述保护层覆盖在所述抗红外光层远离所述基片的一侧表面,所述保护层为防水层,厚度为50-500埃米。

10.根据权利要求9所述埃米抗氧化抗红外光带图案镜片,其特征在于:所述保护层的厚度为120-300埃米。

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