[实用新型]一种用于立式蒸发溅射镀膜设备的测量载具

说明书

本实用新型公开一种用于立式蒸发溅射镀膜设备的测量载具，包括矩形框，矩形框顶边与底边分别设有上导轨与下导轨，上导轨与下导轨分别与镀膜腔室内的传输滚轮形成配合；矩形框内设有安装背板，安装背板的一侧设有竖直的转轴，转轴连接有竖直的芯片挡板，芯片挡板的两侧板面分别设有一组芯片容置槽，芯片容置槽呈U形；安装背板的板面设有两个锁定器，两个锁定器分别位于转轴两侧，锁定器能够对芯片挡板的侧边形成锁定配合；本载具能够解决在一套设备内同时使用蒸发与镀膜两种工艺而无法单独测量膜层成份原子比的问题,并且无需关闭蒸发源及溅射电源，实现随时在线取样，线下测量的功能，提高生产稼动率。

技术领域

本实用新型涉及薄膜太阳能真空镀膜技术领域，具体是一种用于立式蒸发溅射镀膜设备的测量载具。

背景技术

自从1974年Wanger等制备出了世界上第一个CIS薄膜太阳能电池以来，CIS/CIGS太阳能电池以其性能稳定、弱光效应好、转化效率提升空间大、可沉积在柔性衬底上等优点，在市场上得到广泛应用。

CIGS薄膜太阳能电池是在玻璃或者其他廉价衬底上分别沉积多层薄膜而构成的光伏器件。传统的CIGS薄膜太阳电池是SLG(钠钙玻璃)/底电极Mo/吸收层CIGS/缓冲层CdS/，在大规模中生产中，很多设备采用蒸发与溅射在同一种设备中连续镀膜方式来沉积铜铟镓硒中的高阻层，以减少界面层的缺陷及其它杂质对电池的影响。

但由此引出测量芯片时，相互干扰的问题，如测量蒸发膜层的原子质量比需要关闭溅射电源，测量溅射膜层厚度也需要关闭蒸发源，但蒸发源的加热与冷却需要大量的时间。从而造成生产稼动率非常低，大大影响了产品的成本及降低在市场上的竞争力。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于立式蒸发溅射镀膜设备的测量载具，该测量载具能够解决在一套设备内同时使用蒸发与镀膜两种工艺而无法单独测量膜层成份原子比的问题,并且无需关闭蒸发源及溅射电源，实现随时在线取样，线下测量的功能，提高生产稼动率。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种用于立式蒸发溅射镀膜设备的测量载具，包括矩形框，矩形框顶边与底边分别设有上导轨与下导轨，上导轨与下导轨分别与镀膜腔室内的传输滚轮形成配合；矩形框内设有安装背板，安装背板的一侧设有竖直的转轴，转轴连接有竖直的芯片挡板，芯片挡板的两侧板面分别设有一组芯片容置槽，芯片容置槽呈U形；安装背板的板面设有两个锁定器，两个锁定器分别位于转轴两侧，锁定器能够对芯片挡板的侧边形成锁定配合。

进一步的，所述锁定器包括锁定筒，锁定筒内设有复位弹簧，复位弹簧外端连接有顶珠。

进一步的，所述顶边与上导轨之间、底边与下导轨之间分别设有绝缘板。

本实用新型的有益效果是，使用时将硅片放入芯片挡板两侧板面的芯片容置槽中，芯片挡板被一侧的锁定器锁定，本测量载具进入真空腔室后，通过蒸发镀膜腔在表面露出的硅片沉积一层膜层，然后将芯片挡板通过转轴旋转180º，再通过另一侧的锁定器锁定，此时蒸发沉积的膜层被挡住，另一侧露出的硅片可以通过溅射工艺沉积薄膜；无论是单独测量蒸发膜原子质量比，还是测量溅射膜层原子质量比都不需关闭溅射电源及蒸发电源，通过芯片挡板的遮挡，可以随时插入生产进行取样测量，设备时间稼动率可以提升20%以上，大幅度的提高了设备产能。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的侧视图；

图3是本实用新型锁定器的放大示意图；

图4是本实用新型芯片挡板旋转到另一侧的示意图。

具体实施方式