[实用新型]一种微流控复乳化系统

说明书

本实用新型涉及一种微流控复乳化系统，基板在水平方向上依次开设有A相容纳槽、B相容纳槽、C相容纳槽和混合相容纳槽，A相容纳槽和混合相容纳槽之间通过带有至少两条分流道槽的第一微流道槽连通，第一微流道槽和A相容纳槽之间设有第一汇流点，第一微流道槽和混合相容纳槽之间设有第二汇流点，B相容纳槽和第二汇流点之间通过带有至少两条分流道槽的第二微流道槽连通，第二微流道槽和B相容纳槽之间设有第三汇流点，第二微流道槽和第二汇流点之间设有第四汇流点，C相容纳槽和第四汇流点连通；本实用新型提供了一种使多相在微流道中达到湍流、层流和雾化状态，实现了样品的复乳化要求的微流控复乳化系统。

技术领域

本实用新型涉及一种制药领域，特别是涉及一种微流控复乳化系统。

背景技术

复乳化，是将乳状液分散在另外的连续相中形成的多层乳液状，一般具有 O/W/O和W/O/W两种类型。复乳液具有独特的“两膜三相”的多隔室结构，可以将一些性质不同的物质分别溶解在不同的相中，起到了保护、隔离、控制释放、靶向释放等多种功能效果，应用在药剂学、食品、化妆品、化工等领域。但由于复乳液是热力学不稳定体系，工艺制备方法会限制其在各个领域的应用。

微流控复乳化系统通过制备泵和高压输送泵与微流控芯片相连接，A相、B 相、C相可按照一定的比例恒速缓慢、温和输送至芯片中进行混合，乳化。在微流控芯片中通过设计不同的流道结构，控制不同的速度，使得样品在微流控芯片中达到湍流、层流或雾化状态，可以实现样品的复乳化的要求。制备好的样品通过高压泵输送至高压微流控芯片中，通过撞击力和剪切力来控制粒径，使其达到所需范围内。粒径最小可达到100nm以内，PDI至0.1以下。

现有技术的微流控复乳化系统存在压力过低，无法对样品进行有效的工艺制备和粒径加工，并存在样品残留等现象，且不能对样品进行温度控制。对于昂贵的样品来说，这样操作成本过高、处理时间过长。

有鉴于上述的缺陷，本设计人，积极加以研究创新，以期创设一种可满足实验室样品制备、加工要求的微流控复乳化系统，使其更具有产业上的利用价值。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型的目的是提供一种能对样品进行有效的工艺制备和粒径加工的微流控复乳化系统。

本实用新型的微流控复乳化系统，包括盖板和基板，其特征在于：所述基板在水平方向上依次开设有A相容纳槽、B相容纳槽、C相容纳槽和混合相容纳槽，所述A相容纳槽和混合相容纳槽之间通过带有至少两条分流道槽的第一微流道槽连通，所述第一微流道槽和A相容纳槽之间设有第一汇流点，所述第一微流道槽和混合相容纳槽之间设有第二汇流点，所述B相容纳槽和第二汇流点之间通过带有至少两条分流道槽的第二微流道槽连通，所述第二微流道槽和B 相容纳槽之间设有第三汇流点，所述第二微流道槽和第二汇流点之间设有第四汇流点，所述C相容纳槽和第四汇流点连通，位于所述基板上方的盖板上分别开设有与所述A相容纳槽、B相容纳槽、C相容纳槽和混合相容纳槽相连通的A 相进液孔、B相进液孔、C相进液孔和混合相出液孔。

进一步的，两条所述分流道槽相互平行设置。

进一步的，所述A相容纳槽、B相容纳槽、C相容纳槽相互之间的间距大小一致。

进一步的，所述混合相容纳槽和第二汇流点之间的槽线长度大于所述A相容纳槽和第一汇流点之间的槽线长度。

进一步的，所述盖板和基板之间通过若干相适配的螺纹孔和螺杆固定连接。

进一步的，所述基板上还设有环形密封槽。

进一步的，所述A相容纳槽、B相容纳槽、C相容纳槽和混合相容纳槽分布在同一水平线上。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明