[实用新型]一种光面爆破系统

权利要求书

1.一种光面爆破系统，其特征在于：该系统包括有沿着边坡面由外向内逐排设置的主爆孔和光爆孔，所述主爆孔的排列密度小于光爆孔的排列密度，所述主爆孔内采用中部间隔耦合装药结构，所述光爆孔内采用不耦合装药结构，且相邻光爆孔间隔式装药，所述光爆孔孔距设置为1.0-1.5m，所述光爆孔排距设置为3-4m。

2.根据权利要求1所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述主爆孔设置有前、后两排，前、后两排所述的主爆孔在其各自所在排内的孔距均设置为5-7m，且前、后两排所述的主爆孔排距设置为3-4.5m。

3.根据权利要求2所述的一种光面爆破系统，其特征在于：前、后两排所述的主爆孔在其所在排内的孔距均设置为6m。

4.根据权利要求2所述的一种光面爆破系统，其特征在于：前、后两排所述的主爆孔排距设置为4m。

5.根据权利要求2所述的一种光面爆破系统，其特征在于：后排所述的主爆孔与光爆孔形成的抵抗线距离设置为3-4m。

6.根据权利要求5所述的一种光面爆破系统，其特征在于：后排所述的主爆孔与光爆孔形成的抵抗线距离设置为3.5m。

7.根据权利要求1所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述光爆孔孔距设置为1.5m。

8.根据权利要求1所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述光爆孔采用的不耦合结构的不耦合系数K，计算公式为：

K=d/d0

其中，d为炮孔直径（mm），d0为药卷直径（mm），所述K取值范围为2-5。

9.根据权利要求8所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述K取值为3.5。

10.根据权利要求1所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述主爆孔内采用的中部间隔耦合装药的间隔距离变化范围占孔内装药长度15%-35%，且采用岩渣为间隔材料。

11.根据权利要求1所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述光爆孔的单孔装药量为Q，计算公式为：

Q=q×（L-I）+q×0.4

其中，q为每米装药量（g/m），L为炮孔长度（m），I为炮孔堵塞长度（m）。

12.根据权利要求1所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述主爆孔的孔深16.5m，所述光爆孔的孔深17m。

13.根据权利要求1所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述主爆孔和光爆孔的穿孔角度为70°。

14.根据权利要求1所述的一种光面爆破系统，其特征在于：所述光爆孔与相邻排的主爆孔的爆破时间大于或等于110ms。