[实用新型]三柱反式选择型钼99-锝99m发生器装置

权利要求书

1.一种三柱反式选择型钼99-锝99m发生器装置，所述装置包括上位机(1)、全自动钼99-锝99m分离装置(3)、反应模块(16)、Mo-Tc料液瓶(19)、产品瓶(21)、配液溶液瓶(9)、淋洗液1号瓶(10)、淋洗液2号瓶(11)，其特征在于，

所述全自动钼99-锝99m分离装置(3)包括机箱、注射泵模块(14)、多通道转换阀(8)、气动控制阀(4)、反应模组滑台(17)；所述反应模块(16)包括排阀开关(15)、注射器(13)、吸附柱(5)、交换柱(6)、保护柱(7)；

所述上位机通过电缆连接至全自动钼99-锝99m分离装置(3)；所述反应模块(16)插接在反应模组滑台(17)的排阀插槽上；所述反应模组滑台(17)设置在机箱前面板底部；所述气动控制阀(4)设置在反应模组滑台(17)上侧，且位置与所述反应模块(16)的排阀开关相对应；所述排阀开关(15)套接在气动控制阀(4)的阀套中；所述多通道转换阀(8)设置在机箱前面板上方位置，所述多通道转换阀(8)公共端口通过软管连接反应模块(16)的进液口，多通道转换阀(8)其他端口分别接连至配液溶液瓶(9)、淋洗液1号瓶(10)、淋洗液2号瓶(11)；所述注射器(13)与注射泵模块(14)配合在一起；所述注射泵模块(14)设置在气动控制阀(4)上方，正对于所述注射器(13)的位置；所述Mo-Tc料液瓶(19)和产品瓶(21)通过软管分别连接至反应模块(16)的排阀接口处；

所述吸附柱(5)、交换柱(6)和保护柱(7)分别连接至反应模块(16)。

2.根据权利要求1所述的三柱反式选择型钼99-锝99m发生器装置，其特征在于，所述上位机(1)的处理控制部件为触控一体机；所述触控一体机通过触摸屏(2)设置各工位的参数，并监测分离系统运行情况。

3.根据权利要求1所述的三柱反式选择型钼99-锝99m发生器装置，其特征在于，所述气动控制阀(4)包括12组气动旋转摆缸(4-3)、阀套(4-4)、气动控制阀岛(4-2)和I/O控制器(4-1)；

所述12组气动旋转摆缸(4-3)设置在反应模组滑台(17)上侧，且与排阀开关(15)位置相对应；所述12组气动旋转摆缸(4-3)与阀套(4-4)组装在一起，所述阀套(4-4)可嵌入对位的排阀开关(15)；所述气动控制阀岛(4-2)与12组气动旋转摆缸(4-3)通过气管连接，气动控制阀岛(4-2)气驱接口与机箱后面板的气路接口相连；所述I/O控制器(4-1)与气动控制阀岛(4-2)电动接口相连，I/O控制器(4-1)连接至机箱后面板的数据电缆。

4.根据权利要求1所述的三柱反式选择型钼99-锝99m发生器装置，其特征在于，所述装置还包括废液收集瓶(20)，所述废液收集瓶(20)通过软管分别连接至反应模块(16)的排阀接口处。

5.根据权利要求1所述的三柱反式选择型钼99-锝99m发生器装置，其特征在于，所述装置还包括通气口(12)，所述通气口(12)设置在多通道转换阀(8)的其中一个端口。