[实用新型]一种新型热敏打印头用发热基板有效

专利信息
申请号: 201922146981.1 申请日: 2019-12-04
公开(公告)号: CN211165964U 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 刘晓菲 申请(专利权)人: 山东华菱电子股份有限公司
主分类号: B41J2/335 分类号: B41J2/335
代理公司: 威海科星专利事务所 37202 代理人: 于涛
地址: 264209 山东省威*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 新型 热敏 打印头 发热
【说明书】:

实用新型提出一种新型热敏打印头用发热基板,包括绝缘基板,其上局部的设有具有预定宽度的第一釉涂层,第一釉涂层沿着绝缘基板的长边方向分布,沿着绝缘基板的短边方向,在第一釉涂层一侧的绝缘基板上设有第二釉涂层,另一侧的绝缘基板上不设釉涂层,第二釉涂层与第一釉涂层部分重叠,在第一釉涂层上设有若干发热电阻体,在第一釉涂层及第二釉涂层上设有导线电极,导线电极包括公共电极及个别电极,发热电阻体配置在公共电极和个别电极之间;在绝缘基板、发热电阻体及局部导线电极上覆盖有保护层。上述新型热敏打印头用发热基板能够提高产品品质和性能。

技术领域

本实用新型涉及热敏打印技术领域,尤其涉及一种新型热敏打印头用发热基板。

背景技术

我们知道,在现有的图像精细打印领域中,热敏打印头用发热基板的结构多为全面底釉层上通过化学刻蚀或者机械研磨形成的局部凸起结构。现有技术中,还可以通过丝网印刷在发热基板局部形成釉凸起结构,在局釉外区域设有全釉填充层,以提高产品性能。

但是,在生产过程中,这种局釉加全釉填充层结构增加了因釉质不良造成的产品废弃率,特别对于热转写打印,釉质表面突起或异物增加打印压力,容易造成印字不良。同时釉层与保护膜结合力差,为增加保护膜附着力,在无导线电极区域,依然设有电阻体层及导体层,增加了因保护膜缺陷造成产品性能降低的风险。

实用新型内容

为了解决现有技术中存在的问题,本实用新型提出了一种新型热敏打印头用发热基板,以便提高产品品质和性能。

为了实现上述目的,本实用新型提出了一种新型热敏打印头用发热基板,包括绝缘基板,在所述绝缘基板上局部的设有具有预定宽度的第一釉涂层,所述第一釉涂层沿着所述绝缘基板的长边方向分布,沿着所述绝缘基板的短边方向,在所述第一釉涂层一侧的绝缘基板上设有第二釉涂层,另一侧的绝缘基板上不设釉涂层,所述第二釉涂层与第一釉涂层部分重叠,在所述第一釉涂层上设有若干发热电阻体,所述发热电阻体沿着绝缘基板的长边方向配置,在所述第一釉涂层及第二釉涂层上设有导线电极,所述导线电极包括公共电极以及个别电极,所述发热电阻体配置在所述公共电极和个别电极之间;在所述绝缘基板、第一釉涂层、第二釉涂层、发热电阻体及导线电极的外部设有保护层,所述保护层至少覆盖在绝缘基板、发热电阻体及局部导线电极的上方。

优选的是,所述第一釉涂层的宽度设置在0.4mm~1.0mm范围内。

优选的是,所述第一釉涂层的厚度设置在20μm~50μm范围内。

优选的是,所述第二釉涂层与第一釉涂层重叠宽度设置在50μm~100μm范围内。

优选的是,所述第二釉涂层的厚度设置在3μm~10μm范围内。

本实用新型的该方案的有益效果在于上述新型热敏打印头用发热基板,通过在第一釉涂层一侧的绝缘基板上设置第二釉涂层,另一侧绝缘基板上不设釉涂层,这样便能减少因釉质不良造成的基板废弃,提高产品成品率;减少产品釉涂层使用,降低产品成本;绝缘基板外部直接覆盖保护层,能提高保护层的附着力,减少了由于保护层缺陷造成的产品破坏,提高产品性能。

附图说明

图1示出了本实用新型所涉及的新型热敏打印头用发热基板的结构示意图。

附图标记:1-绝缘基板,2-第一釉涂层,3-第二釉涂层,4-发热电阻体,5-导线电极,6-保护层。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的说明。

如图1所示,本实用新型所涉及的新型热敏打印头用发热基板包括绝缘基板1,在所述绝缘基板1上局部印刷非晶质底釉浆料,在1200~1250℃的温度下烧结形成沿所述绝缘基板1长边方向分布的第一釉涂层2,所述第一釉涂层2的宽度设置在0.4mm~1.0mm范围内,厚度设置在20μm~50μm范围内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东华菱电子股份有限公司,未经山东华菱电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922146981.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top