[实用新型]一种抗反射和自清洁玻璃加工用基片干燥装置

权利要求书

1.一种抗反射和自清洁玻璃加工用基片干燥装置，其特征在于：包括箱体(1)，所述箱体(1)的内部设置有两个基片承载结构，所述基片承载结构由横板(4)以及U型夹条(5)构成，所述U型夹条(5)的数目为若干个，且若干个U型夹条(5)等间距固接在横板(4)上，所述U型夹条(5)的截面为U型结构，所述箱体(1)的两侧均开有侧槽(3)，所述侧槽(3)与横板(4)的侧边嵌合连接，两个所述基片承载结构之间安装有若干个竖直的玻璃基片(6)，所述玻璃基片(6)的顶部和底部与U型夹条(5)嵌合连接；

所述箱体(1)的顶部无缝焊接有导风结构，所述箱体(1)的一侧安装有热风机(11)，所述热风机(11)的出风口通过连接管(12)与导风结构顶部连接，所述热风机(11)的进风口安装有进气管(13)，所述进气管(13)的末端安装有空气净化结构；

所述箱体(1)的一侧固定连通有排气管(17)，所述进气管(13)的外部固定套接有回热结构(14)，所述回热结构(14)的底部与排气管(17)末端连接，所述回热结构(14)的一侧顶部安装有出气口(18)，所述箱体(1)的一侧底部安装有阀门(10)，所述箱体(1)的正面设置有箱门(19)，且箱门(19)的边沿处安装有橡胶软垫(1901)，所述箱门(19)顶部与箱体(1)铰接，所述箱门(19)底部与箱体(1)底部之间安装有搭扣锁(1902)。

2.根据权利要求1所述的一种抗反射和自清洁玻璃加工用基片干燥装置，其特征在于：所述横板(4)由若干个条形板(401)构成，相邻的两个所述条形板(401)之间形成间槽(403)，所述条形板(401)的长度方向上开有若干个等间距分布的通孔(402)。

3.根据权利要求1所述的一种抗反射和自清洁玻璃加工用基片干燥装置，其特征在于：所述箱体(1)的底部四角处均固定安装有支撑脚(2)，且支撑脚(2)为矩形块状结构。

4.根据权利要求1所述的一种抗反射和自清洁玻璃加工用基片干燥装置，其特征在于：所述导风结构包括固定板(7)，所述固定板(7)的底部边沿处与箱体(1)顶部连接，且固定板(7)的底部开有空腔(8)，所述空腔(8)的底部设置有铁丝滤网(9)，且铁丝滤网(9)的四边与固定板(7)焊接。

5.根据权利要求1所述的一种抗反射和自清洁玻璃加工用基片干燥装置，其特征在于：所述空气净化结构包括进气罩(15)，所述进气罩(15)与进气管(13)末端固定套接，且进气罩(15)的一侧固定嵌合安装有活性炭过滤网(16)。

6.根据权利要求1所述的一种抗反射和自清洁玻璃加工用基片干燥装置，其特征在于：所述回热结构(14)由圆筒罩(1401)和螺旋叶片(1402)构成，所述圆筒罩(1401)与进气管(13)固定套接，所述螺旋叶片(1402)固定套接在进气管(13)上，且螺旋叶片(1402)的外圈与圆筒罩(1401)的内壁焊接。