[实用新型]显示基板和显示面板有效

专利信息
申请号: 201922120613.X 申请日: 2019-11-28
公开(公告)号: CN210573114U 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 王武;姜美存;王小元;毕瑞琳;冯文龙 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1368 分类号: G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1362
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,包括:

衬底基板;

设置在衬底基板上的显示区和显示区外围的周边区,在所述周边区中设置有虚拟像素单元和虚拟数据线,所述虚拟像素单元包括薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括第一电极和第二电极,所述第一电极为源极和漏极中的一者,所述第二电极为所述源极和漏极中的另一者,所述第一电极与虚拟数据线电连接,所述第二电极具有由第一断口间隔开的第一部分和第二部分。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述虚拟像素单元还包括像素电极,所述第二电极的所述第二部分与所述像素电极电连接,所述薄膜晶体管还包括有源层和栅极,在同一薄膜晶体管中,所述栅极在衬底基板上的正投影与有源层在衬底基板上的正投影至少部分地重叠,且与所述第二电极的所述第一部分在衬底基板上的正投影至少部分地重叠。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其中,在同一薄膜晶体管中,所述有源层在衬底基板上的正投影与所述第二电极的第一部分在衬底基板上的正投影至少部分地重叠,与所述第二电极的第二部分在衬底基板上的正投影不重叠,且所述第一断口在衬底基板上的正投影与所述有源层在衬底基板上的正投影不重叠,与所述栅极在衬底基板上的正投影也不重叠。

4.根据权利要求2所述的显示基板,其中,在同一薄膜晶体管中,所述有源层在衬底基板上的正投影与所述第二电极的第一部分在衬底基板上的正投影至少部分地重叠,且与所述第二电极的第二部分在衬底基板上的正投影至少部分地重叠,所述第一断口在衬底基板上的正投影落入所述有源层在衬底基板上的正投影及所述栅极在衬底基板上的正投影中。

5.根据权利要求2所述的显示基板,其中,在同一薄膜晶体管中,所述第二电极的第一部分靠近所述第一断口的边缘在衬底基板上的正投影与所述栅极在衬底基板上的正投影的一边缘平齐。

6.根据权利要求2所述的显示基板,其中,在同一薄膜晶体管中,所述栅极在衬底基板上的正投影完全覆盖所述第二电极的第一部分在衬底基板上的正投影。

7.根据权利要求2所述的显示基板,其中,在同一薄膜晶体管中,所述栅极在衬底基板上的正投影与所述第二电极的第二部分在衬底基板上的正投影部分地重叠。

8.根据权利要求2所述的显示基板,其中,所述第二电极还具有第三部分,所述第二部分和第三部分由第二断口间隔开,第一断口和第二断口中的每一个在衬底基板上的正投影与栅极在衬底基板上的正投影不重叠且与有源层在衬底基板上的正投影不重叠,第二电极的第一部分和第三部分中的至少一者在衬底基板上的正投影与栅极在衬底基板上的正投影至少部分地重叠且与有源层在衬底基板上的正投影也至少部分地重叠,所述第二电极的所述第二部分通过第一过孔结构与所述像素电极电连接。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的显示基板,还包括公共电极,其中,所述周边区中还设置有电极扩展层,所述电极扩展层与所述公共电极电连接,所述电极扩展层与所述第一电极、第二电极和虚拟数据线由相同材料同层布置,所述电极扩展层与虚拟数据线电连接。

10.根据权利要求9所述的显示基板,其中,同一虚拟数据线的两端均与所述电极扩展层电连接以形成经过所述同一虚拟数据线和电极扩展层的导电回路。

11.根据权利要求2至8中任一项所述的显示基板,还包括公共电极和连接层,其中,所述周边区中还设置有电极扩展层,所述电极扩展层与所述公共电极电连接,所述连接层与所述像素电极由相同的材料制成且同层设置,所述连接层通过第二过孔结构与公共电极电连接,并通过第三过孔结构与所述电极扩展层电连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922120613.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top