[实用新型]流体处理模块以及包括流体处理模块的保管装置

权利要求书

1.一种流体处理模块，其特征在于，包括：

主体部，在内部具有沿第一方向延伸并使流体移动的流路；

吸附过滤器，设置于所述主体部内并与所述第一方向垂直设置；

光触媒过滤器，设置于所述主体部内并与所述第一方向平行设置；以及

光源部，设置于所述主体部内并朝向所述光触媒过滤器射出光，

所述流路在设置有所述吸附过滤器的区域具有第一截面积，使得经过所述流路中的具有所述第一截面积的部分的所述流体具有第一流量，

所述流路在设置有所述光触媒过滤器的区域具有第二截面积，使得经过所述流路中的具有所述第二截面积的部分的所述流体具有使所述光触媒过滤器具有有效除臭效率的第二流量。

2.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，

所述主体部还包括限定所述流路的引导部。

3.根据权利要求2所述的流体处理模块，其特征在于，

所述光源部在所述引导部上设置为与所述光触媒过滤器相向的形态。

4.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，

所述第一截面积大于所述第二截面积，使得所述第一流量小于所述第二流量。

5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的流体处理模块，其特征在于，

所述光源部与所述光触媒过滤器之间的距离为15mm至25mm。

6.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，

所述第一截面积小于所述第二截面积，使得所述第一流量大于所述第二流量。

7.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，

所述流路在设置有所述光触媒过滤器的区域具有所述第二截面积，使得通过所述光触媒过滤器去除污染物质的效率为60％以上。

8.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，

所述流路包括：

第一区域，包括所述流路的入口，并且所述流路的截面积沿所述第一方向变化；

第二区域，与所述第一区域相邻，并且所述流路的截面积恒定；以及

第三区域，包括所述流路的出口，并且所述流路的截面积沿所述第一方向变化。

9.根据权利要求8所述的流体处理模块，其特征在于，

在所述第一区域随着沿所述第一方向行进，所述流路的宽度变窄，

所述第二区域的截面积与所述第二截面积相同。

10.根据权利要求8所述的流体处理模块，其特征在于，

所述光触媒过滤器设置于所述第二区域内。

11.根据权利要求8所述的流体处理模块，其特征在于，

所述吸附过滤器设置于所述第一区域或所述第三区域内。

12.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，还包括：

风扇，设置于所述主体部的所述流路内。

13.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，

所述光触媒过滤器具有沿所述第一方向延伸的形状。

14.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，

所述光源部朝向所述光触媒过滤器射出315nm至400nm的光。

15.根据权利要求1所述的流体处理模块，其特征在于，

所述光源部包括多个光源，

所述多个光源中的至少一部分光源射出彼此不同的波段的光。

16.根据权利要求15所述的流体处理模块，其特征在于，

所述多个光源中的至少一部分朝向所述光触媒过滤器射出100nm至280nm的光。