[实用新型]一种水膜装置

权利要求书

1.一种水膜装置，用于电池片制造湿法刻蚀工艺中，其特征在于，该装置包括：

检测传感器，设置于所述电池片传输通道上方，用于在检测到该电池片传输通道上有电池片时输出一感应信号；

第一喷水单元，设置于所述电池片传输通道上方，且位于所述检测传感器的一侧；

第二喷水单元，设置于所述电池片传输通道上方，且位于远离所述检测传感器的所述第一喷水单元一侧；

控制器，与所述检测传感器、第一喷水单元和第二喷水单元分别电连接，用于在接收到所述感应信号时生成控制信号，以根据该控制信号控制同时开启所述第一喷水单元和第二喷水单元，以使所述第一喷水单元对经过的电池片雾化喷水浸湿电池片表面，所述第二喷水单元对经过的电池片细水滴喷水在电池片表面形成水膜。

2.根据权利要求1所述水膜装置，其特征在于，所述控制器包括延迟器，该延迟器延迟预设时长后生成所述控制信号。

3.根据权利要求2所述水膜装置，其特征在于，所述检测传感器超过一预设时间后检测到所述电池片传输通道上无电池片，将停止所述感应信号的输出。

4.根据权利要求3所述水膜装置，其特征在于，所述预设时长为2秒，所述预设时间为60秒。

5.根据权利要求3所述水膜装置，其特征在于，所述检测传感器通过一支架设置于所述电池片传输通道的上方。

6.根据权利要求1所述水膜装置，其特征在于，所述第一喷水单元包括：

雾化喷头支架，该雾化喷头支架位于所述电池片传输通道上方；

多个雾化喷头，设置于所述雾化喷头支架上；

雾化增压泵，一端与所述多个雾化喷头连接，另一端通过管道连接水箱，并且该雾化增压泵与所述控制器电连接。

7.根据权利要求6所述水膜装置，其特征在于，所述第二喷水单元包括：

细水滴喷头支架，该细水滴喷头支架位于所述电池片传输通道上方；

多个细水滴喷头，设置于所述细水滴喷头支架上；

细水滴增压泵，一端与所述多个细水滴喷头连接，另一端通过管道连接水箱，并且该细水滴增压泵与所述控制器电连接。

8.根据权利要求7所述水膜装置，其特征在于，所述雾化喷头与所述细水滴喷头之间的距离介于100～150mm之间。

9.根据权利要求8所述水膜装置，其特征在于，所述雾化喷头与所述电池片传输通道之间的距离介于25～40mm之间；且所述细水滴喷头与所述电池片传输通道之间的距离介于25～40mm之间。

10.根据权利要求9所述水膜装置，其特征在于，所述雾化喷头与细水滴喷头均为扇形喷头；和/或，所述雾化喷头和细水滴喷头的外壳材质均为塑料，喷嘴材质均为陶瓷。