[实用新型]一种离子注入设备有效

专利信息
申请号: 201922093347.6 申请日: 2019-11-28
公开(公告)号: CN210429730U 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 周波;林锦辉;陈飞;郑志雄;吴虎 申请(专利权)人: 信利(仁寿)高端显示科技有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01L21/266;H01L21/677;H01L21/68
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 李健威
地址: 620500 四川省眉山*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 离子 注入 设备
【权利要求书】:

1.一种离子注入设备,包括制程腔室和离子注入装置,所述离子注入装置与所述制程腔室的离子注入口相连通以向所述制程腔室内发射离子束,以及用于将掩膜板传送至所述制程腔室内的第一传送装置;其特征在于,还包括用于将至少两基板传送至所述制程腔室内的至少两第二传送装置,一第二传送装置对应传送一基板,所述至少两基板在所述制程腔室内于所述掩膜板背向所述离子注入口的一侧相间隔层叠。

2.根据权利要求1所述的离子注入设备,其特征在于,所述至少两第二传送装置沿相同方向将对应的基板传送至所述制程腔室内。

3.根据权利要求1所述的离子注入设备,其特征在于,所述第二传送装置包括第二移动机构和设于所述第二移动机构上的载具机构,其中

所述载具机构用于承载所述基板;

所述第二移动机构用于带动所述载具机构移动,以将所述基板传送至所述制程腔室内。

4.根据权利要求3所述的离子注入设备,其特征在于,所述载具机构用于具有放置所述基板的承载凹槽。

5.根据权利要求1所述的离子注入设备,其特征在于,所述第一传送装置包括第一移动机构和设于所述第一移动机构上的抓取机构,其中

所述抓取机构用于抓取所述掩膜板;

所述第一移动机构用于带动所述抓取机构移动,以将所述掩膜板传送至所述制程腔室内。

6.根据权利要求5所述的离子注入设备,其特征在于,所述抓取机构包括若干吸盘和/或若干电磁铁。

7.根据权利要求1-6中任一所述的离子注入设备,其特征在于,还包括对位感测机构,用于对所述掩膜板和基板之间的对位标进行感测识别。

8.根据权利要求7所述的离子注入设备,其特征在于,所述对位感测机构设置于所述第一传送装置上。

9.根据权利要求7所述的离子注入设备,其特征在于,所述对位感测机构包括若干对位摄像头和/或若干对位传感器。

10.根据权利要求1-6中任一所述的离子注入设备,其特征在于,所述掩膜板具有开口区和非开口区,所述基板具有掺杂区和非掺杂区,所述开口区与所述掺杂区对齐,所述非开口区与所述非掺杂区对齐。

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