[实用新型]可精确定位基片架的真空室

说明书

本实用新型提供了一种可精确定位基片架的真空室，所述真空室的内部设置有基片架和输送基片架的轨道，真空室相对的两侧分别设置有供基片架进出真空室的入口和出口，所述基片架的行进路径上设置有第一传感组件，所述基片架具有至少两个对应所述第一传感组件的感应位，在基片架行进过程中，当所述第一传感组件检测到某感应位时，基片架减小行进速度或完全停止。本实用新型通过在基片架上设置多个感应位，传感组件依次检测到感应位，系统可以控制基片架逐渐减小行进速度，保证最终能平稳精确地停留在设置的位置，避免与翻板阀发生干涉。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备领域，特别是涉及可精确定位基片架的真空室。

背景技术

真空室是磁控溅射真空镀膜系统的主要设备，真空室的两个侧壁均设置有翻板阀，内部设置有基片架、靶材以及输送基片架的轨道。镀膜前，基片架装载需要镀膜的基片从一侧翻板阀进入到真空室内部，为了让基片架准确停留在设定的位置上，基片架需要提前减速，避免基片架在轨道停止运动时由于惯性继续向前运动。镀膜完成后，基片架装卸镀膜后的基片从另一侧翻板阀离开真空室。

基片架停留在真空室内时，基片架距离翻板阀的距离不大于10mm，如果停留位置不够精确，会导致翻板阀关闭时与基片架发生碰撞。现有真空室的基片架进口处和出口处各设置有一传感器，当进口处的传感器检测到基片架进入到真空室时，在适当延时后会减小基片架的行进速度，以保证基片能够稳定停下来，但减速后的基片架行进速度还是过快，无法保证精确停靠。

实用新型内容

本申请提供了一种可精确定位基片架的真空室，解决了传统镀膜设备因基片架定位不精确导致存在与翻板阀发生碰撞的风险。

一种可精确定位基片架的真空室，所述真空室的内部设置有基片架和输送基片架的轨道，真空室相对的两侧分别设置有供基片架进出真空室的入口和出口，所述基片架的行进路径上设置有第一传感组件，所述基片架具有至少两个对应所述第一传感组件的感应位，在基片架行进过程中，当所述第一传感组件检测到某感应位时，基片架减小行进速度或完全停止。

所述的感应位就是触发传感组件的位置，在感应位可以设置触发机构，触发机构可以是避让孔或机械拨块。

以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。

可选的，所述第一传感组件为光电传感器，光电传感器的两个组件位于轨道的两侧，所述基片架上设置有触发光电传感器的缺口。

可选的，所述缺口的数量为两个。

可选的，所述轨道由多个处于同一水平直线的传动辊组成。

可选的，所述轨道的数量为并行的两条。

可选的，所述入口和出口处分别设置有第二传感组件和第三传感组件。

可选的，所述真空室内设置有安装第一传感组件的支架，所述支架上设置有沿纵向设置的第一腰型孔，所述第一传感组件通过穿过第一腰型孔的螺栓固定在支架上。

可选的，所述支架上设置有水平布置的第二腰型孔，所述支架通过穿过第二腰型孔的螺栓固定在真空室的底面上。

本实用新型通过在基片架上设置多个感应位，传感组件依次检测到感应位，系统可以控制基片架逐渐减小行进速度，保证最终能平稳精确地停留在设置的位置，避免与翻板阀发生干涉。

附图说明

图1为本实用新型真空室的结构示意图。

图2为图1中A局部的放大图。

图3为本实用新型真空室的正面结构示意图。