[实用新型]一种用于除臭的离子发生设备有效

专利信息
申请号: 201922070330.9 申请日: 2019-11-27
公开(公告)号: CN211705406U 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 乐明山 申请(专利权)人: 乐明山
主分类号: A61L9/22 分类号: A61L9/22;A61L9/14;B01D46/12;B01D46/00;A61L101/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362008 福建省泉州市丰泽区北清东路51*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 除臭 离子 发生 设备
【权利要求书】:

1.一种用于除臭的离子发生设备,其结构包括支撑板(1)、排气块(2)、接电块(3)、机体(4)、底座(5),其特征在于:

所述支撑板(1)的底端与底座(5)的顶端相焊接,所述排气块(2)与机体(4)为一体化结构,所述接电块(3)的后端与机体(4)的前端相焊接,所述机体(4)的底端与底座(5)的顶端相焊接,所述底座(5)与支撑板(1)为一体化结构,所述排气块(2)包括受压块(21)、隔网(22)、滑动槽(23)、块体(24)、排气口(25)、支撑架(26)、收纳槽(27)、滚珠(28),所述受压块(21)的底端与隔网(22)的顶端中部相焊接,所述隔网(22)的左端水平嵌入在滑动槽(23)上,所述滑动槽(23)与块体(24)为一体化结构,所述排气口(25)与支撑架(26)为一体化结构,所述支撑架(26)的顶端与块体(24)的底端相焊接,所述收纳槽(27)的底端与滚珠(28)的顶端活动触碰,所述滚珠(28)设于支撑架(26)的底端,所述收纳槽(27)位于隔网(22)的正下方,所述支撑架(26)与收纳槽(27)的左右两端活动触碰,所述排气口(25)位于块体(24)的正下方,所述受压块(21)位于收纳槽(27)的正上方,所述块体(24)与机体(4)为一体化结构。

2.根据权利要求1所述的一种用于除臭的离子发生设备,其特征在于:所述支撑板(1)的前端与机体(4)的后端相焊接,所述接电块(3)位于底座(5)的上方。

3.根据权利要求1所述的一种用于除臭的离子发生设备,其特征在于:所述滚珠(28)为球体结构。

4.根据权利要求1所述的一种用于除臭的离子发生设备,其特征在于:所述隔网(22)与收纳槽(27)相平行。

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