[实用新型]一种用于除臭的离子发生设备有效
申请号: | 201922070330.9 | 申请日: | 2019-11-27 |
公开(公告)号: | CN211705406U | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 乐明山 | 申请(专利权)人: | 乐明山 |
主分类号: | A61L9/22 | 分类号: | A61L9/22;A61L9/14;B01D46/12;B01D46/00;A61L101/10 |
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地址: | 362008 福建省泉州市丰泽区北清东路51*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 除臭 离子 发生 设备 | ||
1.一种用于除臭的离子发生设备,其结构包括支撑板(1)、排气块(2)、接电块(3)、机体(4)、底座(5),其特征在于:
所述支撑板(1)的底端与底座(5)的顶端相焊接,所述排气块(2)与机体(4)为一体化结构,所述接电块(3)的后端与机体(4)的前端相焊接,所述机体(4)的底端与底座(5)的顶端相焊接,所述底座(5)与支撑板(1)为一体化结构,所述排气块(2)包括受压块(21)、隔网(22)、滑动槽(23)、块体(24)、排气口(25)、支撑架(26)、收纳槽(27)、滚珠(28),所述受压块(21)的底端与隔网(22)的顶端中部相焊接,所述隔网(22)的左端水平嵌入在滑动槽(23)上,所述滑动槽(23)与块体(24)为一体化结构,所述排气口(25)与支撑架(26)为一体化结构,所述支撑架(26)的顶端与块体(24)的底端相焊接,所述收纳槽(27)的底端与滚珠(28)的顶端活动触碰,所述滚珠(28)设于支撑架(26)的底端,所述收纳槽(27)位于隔网(22)的正下方,所述支撑架(26)与收纳槽(27)的左右两端活动触碰,所述排气口(25)位于块体(24)的正下方,所述受压块(21)位于收纳槽(27)的正上方,所述块体(24)与机体(4)为一体化结构。
2.根据权利要求1所述的一种用于除臭的离子发生设备,其特征在于:所述支撑板(1)的前端与机体(4)的后端相焊接,所述接电块(3)位于底座(5)的上方。
3.根据权利要求1所述的一种用于除臭的离子发生设备,其特征在于:所述滚珠(28)为球体结构。
4.根据权利要求1所述的一种用于除臭的离子发生设备,其特征在于:所述隔网(22)与收纳槽(27)相平行。
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