[实用新型]利于气液充分接触的填料体

权利要求书

1.一种利于气液充分接触的填料体，其特征在于：包括上层填料框架(1)和下层填料框架(2)，所述上层填料框架向下延伸形成卡接柱，所述下层填料框架设有与所述卡接柱匹配的定位孔(21)，所述卡接柱插入所述定位孔以实现上层填料框架和下层填料框架的固定；

所述上层填料框架的中心设有定位柱(11)，所述定位柱与上层筋条(12)连接，所述上层筋条和所述上层填料框架连接，所述下层填料框架的中心设有与所述定位柱相对应的定位套筒(22)，所述定位套筒和下层筋条(23)连接，所述下层筋条和所述下层填料框架连接；

相邻所述上层筋条之间及相邻所述下层筋条之间皆设有环形的分流筋条(3)，所述分流筋条的横截面为菱形，且所述分流筋条的每侧面皆均匀分布有粉碎柱(31)；

所述上层填料框架和所述下层填料框架之间设有螺旋叶片(4)，所述螺旋叶片与若干根连接杆(5)连接，若干根所述连接杆与套管(6)连接，所述套管套于所述定位柱；

所述螺旋叶片的外侧设有若干片第一挡片(41)，所述第一挡片沿着所述螺旋叶片的螺旋方向均匀分布，且第一挡片上设有若干个均匀分布的第一通孔(411)；

所述上层填料框架设有若干根连接柱(13)，所述下层填料框架设有与所述连接柱相对应的连接孔(24)，所述连接柱的表面均匀分布有第二挡片(16)，且第二挡片上设有若干个均匀分布的第二通孔(161)。

2.根据权利要求1所述的利于气液充分接触的填料体，其特征在于：所述卡接柱包括两个相互对称设置的连接臂(14)，两个所述连接臂的外侧皆设有向内凹陷的凹槽(141)，所述凹槽卡于定位孔以实现上层填料框架和下层填料框架的固定。

3.根据权利要求2所述的利于气液充分接触的填料体，其特征在于：两个所述连接臂之间设有弹性支撑件(15)，所述弹性支撑件为上下来回折返的瓦楞型弹性支撑件，且所述弹性支撑件的两端分别与两个所述连接臂连接。

4.根据权利要求1所述的利于气液充分接触的填料体，其特征在于：所述填料体为聚丙烯填料体或聚氟乙烯填料体。

5.根据权利要求1所述的利于气液充分接触的填料体，其特征在于：所述第一挡片和所述第二挡片相互垂直设置。

6.根据权利要求1所述的利于气液充分接触的填料体，其特征在于：所述粉碎柱为针状或液滴状的粉碎柱。

7.根据权利要求1所述的利于气液充分接触的填料体，其特征在于：所述填料体为圆柱型的填料体，所述填料体的高度为75-80mm，所述填料体的外径为80-85mm。