[实用新型]一种高密度反应沉淀池有效
申请号: | 201922028522.3 | 申请日: | 2019-11-21 |
公开(公告)号: | CN211141619U | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 杨渤京;范德强;杨丙山 | 申请(专利权)人: | 北京广诚环境科技有限公司 |
主分类号: | C02F1/52 | 分类号: | C02F1/52 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 刘乾帮 |
地址: | 102627 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高密度 反应 沉淀 | ||
1.一种高密度反应沉淀池,包括絮凝池(1)和沉淀池(2),沉淀池(2)内设置有斜板(3)和刮泥装置(96),其特征是:斜板(3)固定在支架上,支架的上端连接有多个气缸(4),所述气缸(4)固定在沉淀池(2)的池壁上,气缸(4)露出水面;支架包括贴于两个池壁上的槽形钢(5),槽形钢(5)水平设置,两个槽形钢(5)的开口相对,斜板(3)的两端卡在两个槽形钢(5)的凹槽内;活塞杆(42)与槽形钢(5)的顶板连接。
2.根据权利要求1所述的一种高密度反应沉淀池,其特征是:每根槽形钢(5)的底部间隔设置有三角托架(6),三角托架(6)固定在池壁上。
3.根据权利要求1所述的一种高密度反应沉淀池,其特征是:气缸(4)的活塞杆(42)倾斜向下,与所述斜板(3)的角度相同。
4.根据权利要求3所述的一种高密度反应沉淀池,其特征是:活塞杆(42)与斜板(3)的安装倾度与水平方向均为60度。
5.根据权利要求3所述的一种高密度反应沉淀池,其特征是:池壁上固定安装有导轨,导轨的方向与活塞杆(42)的运动方向平行;槽形钢(5)上开设有与导轨适配的滑槽。
6.根据权利要求5所述的一种高密度反应沉淀池,其特征是:还包括位于池中心的转轴(7),所述转轴(7)的外周面设置遮挡环(71),遮挡环(71)贴近于斜板(3)的底面。
7.根据权利要求1-6任一所述的一种高密度反应沉淀池,其特征是:所述气缸(4)设置有多个,多个气缸(4)成对设置在池壁上。
8.根据权利要求1-6任一所述的一种高密度反应沉淀池,其特征是:还包括连接于转轴(7)并贴近于池底的刮泥装置(96);转轴(7)的周面靠近刮泥装置(96)处固接有锥形罩(72),所述锥形罩(72)开口朝下。
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