[实用新型]一种陶瓷基片研磨抛光机

权利要求书

1.一种陶瓷基片研磨抛光机，包括基座，其特征是：所述基座为“V”字形结构；所述基座上设有通过电机驱动旋转的旋转下圆盘；所述基座上左右两端分别设有左支撑架和右支撑架，所述左支撑架和所述右支撑架上横跨所述旋转下圆盘设有导轨和驱动螺杆；所述导轨上设有复数个抛光机构；所述抛光机构包括设于所述导轨上通过所述驱动螺杆驱动进行左右滑动的抛光底座、设于抛光底座上的电动机、通过所述电动机的皮带带动的从动动力输出机构、所述从动动力输出机构上的动力输出轴连接的上圆盘和设于所述抛光底座上的油缸；所述油缸包括油缸筒和活塞杆，所述油缸筒固定设于所述抛光底座上；所述动力输出轴在所述活塞杆的带动下在旋转的同时上下运动。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述活塞杆连接有轴承机构，所述轴承机构内套所述动力输出轴，所述动力输出轴底部侧面设有定位螺丝，所述定位螺丝包括设于所述动力输出轴的螺母、套设于所述螺母中的螺丝。

3.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述电动机为伺服电动机。

4.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述左支撑架上设有螺杆电机，所述螺杆电机为伺服电动机，所述螺杆电机用于驱动所述驱动螺杆旋转，通过所述驱动螺杆的旋转带动所述抛光底座的左右滑动。

5.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述导轨为工字型导轨。

6.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述抛光机构数量为2座，所述旋转下圆盘中心的两侧等距各设一座所述抛光机构。

7.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述从动动力输出机构两侧各设有一所述油缸。

8.根据权利要求6所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述从动动力输出机构两侧各设有一所述油缸。