[实用新型]基准辅助延伸测量尺有效
| 申请号： | 201922013808.4 | 申请日： | 2019-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN210997809U | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 高峰 | 申请（专利权）人： | 华域视觉科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B23Q17/22 | 分类号： | B23Q17/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201821 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基准 辅助 延伸 测量 | ||
【权利要求书】：
1.一种基准辅助延伸测量尺，其特征在于，包括：测量部分和固定部分，所述测量部分为中空的矩形结构，所述固定部分包括互相垂直的2条边，且所述固定部分的2条边与所述测量部分的矩形结构的边平行。
2.如权利要求1所述的基准辅助延伸测量尺，其特征在于，所述基准辅助延伸测量尺的横截面为正方形。
3.如权利要求1所述的基准辅助延伸测量尺，其特征在于，所述固定部分的2条边的相对的内部的表面有磁石槽，磁石放置于所述磁石槽内。
4.如权利要求3所述的基准辅助延伸测量尺，其特征在于，所述磁石槽等间距设置。
5.如权利要求1所述的基准辅助延伸测量尺，其特征在于，所述固定部分的互相垂直的2条边相交处有一凹槽。
6.如权利要求5所述的基准辅助延伸测量尺，其特征在于，所述凹槽为圆角凹槽形状。
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