[实用新型]石英坩埚局部涂层制备用治具

说明书

本实用新型提供一种石英坩埚局部涂层制备用治具，属于石英坩埚制作技术领域。包括涂层限位环及至少两个定位臂，定位臂的一端设置于涂层限位环上，另一端向上延伸，定位臂远离涂层限位环的一端设置有限位卡，若干定位臂位于同一圆周上，且该圆周的正投影与涂层限位环的正投影同圆心。将涂层限位环放置于石英坩埚的外侧底部，调节涂层限位环的位置，使得限位卡卡接于石英坩埚的上沿上，此时，涂层限位环正好位于石英坩埚底部中心位置，实现对石英坩埚局部涂层制备用治具的快速准确定位，且同时，利用限位卡使石英坩埚局部涂层制备用治具保持相对固定，不容易发生位移，从而提高石英坩埚底部涂层位置的确定性。

技术领域

本实用新型属于石英坩埚制作技术领域，具体涉及一种石英坩埚局部涂层制备用治具。

背景技术

石英坩埚通常是Czochralski法(CZ法)拉制单晶硅棒的重要辅件。石英坩埚作为硅料的载体有着不可替代的作用。

随着石英坩埚制造技术的不断发展，具有局部涂层的坩埚无论是在性能还是在使用效果方面都取得了显著的成就，尤其是外壁底部具有涂层的坩埚，在保温、防止坩埚底部变形、提高拉晶时长等方面发挥着不可替代的作用。

坩埚局部涂层治具是辅助成型坩埚局部涂层的重要工具，现有技术中提供的一种制备坩埚底部涂层的治具，将该治具放置于石英坩埚底部，环形的治具与坩埚的底面围绕形成待涂层的区域。但是这种治具需要人工定位，不能准确的在坩埚底部中心形成待涂层区域，且无法固定，容易发生位移。

发明内容

有鉴于此，本实用新型提供一种石英坩埚局部涂层制备用治具，以解决现有技术中存在的石英坩埚局部涂层制备过程中，治具无法准确定位，且容易发生位移的技术问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种石英坩埚局部涂层制备用治具，包括

涂层限位环；以及

至少两个定位臂，所述定位臂的一端设置于所述涂层限位环上，另一端向上延伸，所述定位臂远离所述涂层限位环的一端设置有限位卡，若干所述定位臂位于同一圆周上，且该圆周的正投影与所述涂层限位环的正投影同圆心。

优选地，所述定位臂包括水平臂及直立臂，所述水平臂的一端连接所述涂层限位环，所述直立臂连接所述水平臂远离所述涂层限位环的一端，且垂直于所述涂层限位环。

优选地，所述水平臂上具有可伸缩结构。

优选地，所述直立臂上具有可伸缩结构。

优选地，所述直立臂包括固定臂及伸缩臂，所述固定臂的一端连接所述水平臂，所述伸缩臂插接于所述固定臂远离所述水平臂的一端，且能够沿所述固定臂上下滑动。

优选地，所述固定臂与所述伸缩臂上，位于所述固定臂与所述伸缩臂的连接处，开设有固定槽，所述固定槽内设置有定位螺母，所述定位螺母能够将所述固定臂与所述伸缩臂固定。

优选地，所述限位卡固定设置于所述定位臂远离所述涂层限位环的一端，且所述限位卡具有水平定位部，所述水平定位部平行于所述涂层限位环。

优选地，所述涂层限位环的上边沿设置圆角。

优选地，所述涂层限位环的内径为12英寸～22.4英寸。