[实用新型]一种氧化锗制备反应装置

权利要求书

1.一种氧化锗制备反应装置，包括外箱体(4)，所述外箱体(4)的上端卡设有上盖(9)，其特征在于，所述箱体(4)的下端一侧开设有贯穿箱体(4)的方形孔(8)，所述箱体(4)的内侧下端放置有反应釜(11)，且反应釜(11)的上端为开口设置，所述箱体(4)内侧的尺寸与反应釜(11)的尺寸相互匹配，且方形孔(8)与反应釜(11)间隙配合，所述反应釜(11)的一侧上端与箱体(4)的外部一侧中端之间设置有卡合机构(3)，且卡合机构(3)位于方形孔(8)的上方，所述上盖(9)的上端中部安装有贯穿上盖(9)的圆管(6)，所述圆管(6)的下端延伸至外箱体(4)的内侧上端，所述圆管(6)的内侧固定有加热棒(5)，所述圆管(6)下端均匀开设有多个贯穿圆管(6)的散热孔(7)，所述上盖(9)的上端一侧安装有贯穿上盖(9)的试剂管(2)，所述试剂管(2)的下端延伸至外箱体(4)的内侧，所述箱体(4)的外部一侧上端固定安装有控制面板(10)，所述控制面板(10)位于卡合机构(3)的上方。

2.根据权利要求1所述的一种氧化锗制备反应装置，其特征在于，所述卡合机构(3)包括水平连接在外箱体(4)外部一侧中端的直板(34)以及连接在反应釜(11)一侧上端的连接板(36)，所述连接板(36)的上端一侧开设有限位槽(35)，所述直板(34)的上端一侧开设有贯穿直板(34)的圆孔(33)，所述圆孔(33)内插设有贯穿圆孔(33)的圆杆(32)，所述圆杆(32)的下端延伸至限位槽(35)的内侧，且限位槽(35)、圆孔(33)以及圆杆(32)之间间隙配合，所述圆杆(32)的上端固定安装有圆板(31)。

3.根据权利要求1所述的一种氧化锗制备反应装置，其特征在于，所述试剂管(2)的下端为尖端设置。

4.根据权利要求1所述的一种氧化锗制备反应装置，其特征在于，所述上盖(9)的上端两侧固定安装有把手(1)。