[实用新型]一种溅射镀膜一体机用滚筒

说明书

本实用新型公开了一种溅射镀膜一体机用滚筒，属于溅射镀膜设备技术领域，包括滚筒本体、两个滚轮、两个圆环形齿轮、若干支撑导柱和挡板组件，所述滚筒本体内部设有供待镀膜物品承放的容纳腔，所述滚筒本体的侧壁上设有与容纳腔连通的圆形贯穿槽，两个所述滚轮分别安装在滚筒本体的两端，两个所述圆环形齿轮分别安装在滚筒本体的两侧，若干所述支撑导柱围绕着所述滚筒本体的轴线方向均匀设置，所述挡板组件设置在滚筒本体的内圆周壁上。本申请在镀膜的过程中滚动，则能让容纳腔内的大量物件跟随着滚筒本体转动，增加所有的待镀膜的物件与成膜物质的接触面积，提高镀膜的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜设备技术领域，特别涉及一种溅射镀膜一体机用滚筒。

背景技术

目前市场上生产LCD、OLED、TP等元器件中材料很多例如：SiO2、SIN、TiO2、ITO、IZO、金属等常用膜层材料都会用到真空磁控溅射镀膜机(PVD)；真空溅镀设备一般由阴极系统，真空系统、传送系统等部分组成；真空镀膜的核心在于连续稳定的真空腔体中制备均匀的所需膜层，目前的设备和基板都往大尺寸方向发展，就需要更少的真空腔体开腔频率，更均匀的膜层均匀行来保证设备高效稳定的运行。

现有技术中，在对小颗粒物件例如米粒大小的物件的镀膜过程中，首先需要对大量的物件进行承载，目前无论是承载托盘、承载板、承载箱等等在对大量颗粒物件进行承载后完成镀膜作业，大量的物件的溅射镀膜的程度都不均匀，且溅射镀膜的效率低下，则使的产品的合格率较低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种溅射镀膜一体机用滚筒。

为解决上述问题，本实用新型提供以下技术方案：一种溅射镀膜一体机用滚筒，包括滚筒本体、两个滚轮、两个圆环形齿轮、若干支撑导柱和挡板组件，所述滚筒本体内部设有供待镀膜物品承放的容纳腔，所述滚筒本体的侧壁上设有与容纳腔连通的圆形贯穿槽，两个所述滚轮分别安装在滚筒本体的两端，两个所述圆环形齿轮分别安装在滚筒本体的两侧，若干所述支撑导柱围绕着所述滚筒本体的轴线方向均匀设置，所述挡板组件设置在滚筒本体的内圆周壁上。

所述圆环形齿轮的直径大于滚筒本体的直径，所述滚轮的直径大于圆环形齿轮的直径，每个所述滚轮的外圆周壁呈半圆形结构。

所述挡板组件包括第一支撑部件、第一挡板组件和第二挡板组件，所述第一支撑部件围绕着滚筒本体的轴线均匀设置在滚筒本体的内侧壁上，所述第一挡板组件和第二挡板组件均设置在滚筒本体的内圆周壁上且呈交叉状态设置。

所述第一支撑部件包括若干导向柱，每个所述导向柱均呈水平状态设置，所述导向柱的两端分别通过两个平口螺钉与滚筒本体的两端固定连接。

所述第一挡板组件包括若干围绕着滚筒本体的轴线均匀设置的第一定位挡板，每个所述第一定位挡板均呈固定角度倾斜设置在滚筒本体的内圆周壁上。

所述第二挡板组件包括若干围绕着滚筒本体的轴线均匀设置的第二定位挡板，每个所述第二定位挡板均呈固定角度倾斜设置在滚筒本体的内圆周壁上，其中所述一个第二定位挡板均设置在相邻的两个第一定位挡板之间。

所述第一定位挡板与第二定位挡板倾斜设置的固定角度均为70度。

有益效果：第一，本申请通过圆筒形结构设置，首先能够保证大量的颗粒物件在镀膜过程中稳定的承载，本申请通过滚筒本体、两个滚轮、两个圆环形齿轮、若干支撑导柱和挡板组件组成，滚筒本体内拥有供待镀膜物件承放的容纳腔，两个滚轮设置在滚筒本体的外圆周壁上，则能搭配驱动装置作业，让本申请在镀膜的过程中滚动，则能让容纳腔内的大量物件跟随着滚筒本体转动，提高所有的待镀膜的物件与成膜物质的接触面积，提高镀膜的效率。