[实用新型]等离子体发射质谱仪接口锥抛光仪有效

专利信息
申请号: 201921977229.5 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN211014112U 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 曹洁;宁娜静;杨念;苏珂;刘向磊;倪文山;张梦泽;李永新;王鹏飞;王铁良;文田耀 申请(专利权)人: 曹洁
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;B24B29/04;B24B47/12
代理公司: 郑州优盾知识产权代理有限公司 41125 代理人: 冉珊敏
地址: 476200 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 发射 质谱仪 接口 抛光
【说明书】:

实用新型属于验室仪器辅助设备领域,特别是指等离子体发射质谱仪接口锥抛光仪。包括载体板和壳体,载体板上设有减速机、电路板、电机和锥载体,锥载体包括抛光部和连接部,抛光部从外到内依次设有钢圈Ⅰ、磨砂膏、钢圈Ⅱ、钢圈和磨砂膏,钢圈Ⅰ、磨砂膏、钢圈Ⅱ、钢圈和磨砂膏同轴线设置。本申请采用接口锥抛光仪,可以解决清洗不彻底、锥体溶解、速度慢、锥体损伤等问题,快速彻底地达到自动清洗效果。本申请在设计和制作时充分考虑现实中操作使用的实用性,根据不同厂家接口锥的尺寸制造相应尺寸的锥载体,采用微米级研磨膏避免锥体的划伤,高速大扭力电机,以实现快速有效的清理锥体表面。

技术领域

本实用新型属于验室仪器辅助设备领域,特别是指等离子体发射质谱仪接口锥抛光仪。

背景技术

在等离子体发射质谱仪使用过程中接口锥会受到样品里复杂的基体污染,导致堵塞或者影响到实验分析,在采用常规处理方法时有以下弊端:超声清洗时无法彻底清洁,只能少部分溶解盐类;用酸清洗时会对锥体本身材质造成损害,多次以后会破坏锥本身结构,造成锥报废;手工打磨时首先速度极慢,耗时极长,再者方向很难把握,造成锥孔变形报废,另外研磨膏颗粒直径较大时也会造成锥表面损伤或报废。

实用新型内容

本实用新型提出一种等离子体发射质谱仪接口锥抛光仪,可实现自动化的清洁抛光等离子体发射质谱仪器。

本实用新型的技术方案是这样实现的:

等离子体发射质谱仪接口锥抛光仪,包括载体板和壳体,载体板上设有减速机、电路板、电机和锥载体,锥载体包括抛光部和连接部,抛光部从外到内依次设有钢圈Ⅰ、磨砂膏Ⅰ、钢圈Ⅱ、钢圈和磨砂膏Ⅱ,钢圈Ⅰ、磨砂膏Ⅰ、钢圈Ⅱ、钢圈和磨砂膏Ⅱ同轴线设置。

所述减速机与电路板电性连接、电路板与电机电性相连,电机的输出端穿过载体板中部的固定板与伞齿轮Ⅰ相连。

所述连接部包括伞齿轮Ⅱ和连接杆。

所述伞齿轮Ⅰ与伞齿轮Ⅱ相啮合。

所述电机的输出端与伞齿轮Ⅰ通过联轴器相连。

所述磨砂膏Ⅰ和磨砂膏Ⅱ均为微米级研磨膏。

本技术方案能产生的有益效果:本申请采用接口锥抛光仪,可以解决清洗不彻底、锥体溶解、速度慢、锥体损伤等问题,快速彻底地达到自动清洗效果。本申请在设计和制作时充分考虑现实中操作使用的实用性,根据不同厂家接口锥的尺寸制造相应尺寸的锥载体,研磨膏涂在锥体表面的,采用微米级研磨膏避免锥体的划伤,高速大扭力电机,以实现快速有效的清理锥体表面。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的主体结构示意图。

图2为本实用新型的壳体结构示意图。

图3为锥载体的结构示意图。

图4为锥载体上抛光部的俯视结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

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