[实用新型]液晶显示装置

说明书

不特别地损害显示质量，或不显著地增加成本，改善横向电场驱动方式的液晶显示装置中的由静电引起的显示缺陷。本实用新型的液晶显示装置(10)具备：薄板化为小于0.5mm的阵列基板(110)及对置基板(120)；封装于这一对基板间的液晶层(140)；以及设置于该对置基板(120)之上，与没有照射光的状态相比，具有照射了光的状态下的体积电阻值至少变化为小于或等于1/10的光导电性特性的取向膜(122)。

技术领域

本实用新型涉及液晶显示装置，特别是涉及使用了横向电场驱动方式的液晶面板的液晶显示装置。

背景技术

在具备相对于基板面平行地被施加电压的横向电场驱动方式的液晶面板的液晶显示装置中，在形成有TFT(Thin Film Transistor) 等驱动元件的基板(“TFT阵列基板”、或简称为“阵列基板”)中设置电极，在设置彩色滤光片等的对置基板(也称为“彩色滤光片(CF)基板”)中没有设置电极。因此，存在由于来自对置基板侧的静电等外部电场的侵入、或对置基板表面的局部带电等，在液晶面板的显示中产生不良情况的问题。

因此，在现有的具备通常的横向电场驱动方式的液晶面板的液晶显示装置中，作为上述那样的静电放电(ESD：Electro-Static Discharge)对策，为了对来自对置基板侧的外部电场的侵入进行抑制，在对置基板的显示面侧(即，与阵列基板相反侧)的玻璃表面，采用形成有由ITO(Indium Tin Oxide)膜等构成的透明导电层(由于相对于配置彩色滤光片侧的面而设置于背面侧，因此也称为“背面 ITO”)的构造。

另一方面，关于横向电场驱动方式的液晶显示装置所使用的取向膜，有时为了提高可靠性、光学特性而使用高电阻规格的取向膜(例如，以聚酰胺酸为前驱体进行酰亚胺化而形成的聚酰亚胺)。特别地，近年来，在横向电场驱动方式的液晶显示装置中与高画质化的要求相伴地，多数应用在取向处理中使用偏振光的光取向膜。关于该光取向膜，为了使取向特性稳定化，需要增大光分解性聚合物的分子量，由于相伴于此而将形成聚酰亚胺时的酰亚胺化率设定得高，因此成为电阻率高，具有高电阻的取向膜。

在使用了以上那样的具有高电阻的取向膜的情况下，有时在对置基板的单元内侧的基板面产生局部带电，产生辉点缺陷、显示不均这样的显示状态缺陷(显示缺陷)。特别地，根据申请人进行的详细的调查研究，发现该辉点缺陷、显示不均的产生是否变得显著与制造工艺中的形成上述背面ITO的定时相关。具体而言，与对近年来的液晶显示装置的薄型轻量化的要求、具有弯曲形状显示面的弯曲显示器化的要求相伴地，成为薄型机型、弯曲型机型的液晶显示装置正在产品化。在成为该薄型机型、弯曲型机型的液晶显示装置中，在使用了具有高电阻的取向膜的情况下，特别关注上述辉点缺陷、显示不均的产生变得显著的问题。作为成为该薄型机型、弯曲型机型的液晶显示装置与通常的液晶显示装置的制造工艺的区别在于如下这一点，即，在成为该薄型机型、弯曲型机型的液晶显示装置中，在其制造工艺的中途，设置通过研磨等将主玻璃基板的厚度加工得薄的薄板化研磨工序(也称为薄化工序)，在通常的液晶显示装置中，没有设置该薄化工序。

另一方面，关于形成上述背面ITO的定时而言，在没有使用该薄化工序的通常的液晶显示装置中，在贴合主玻璃基板前的状态下形成背面ITO，与此相对，在成为采用了进行薄化工序的制造工艺的薄型机型、弯曲型机型的液晶显示装置的情况下，通常在薄化工序之后形成上述背面ITO。在设置了背面ITO的状态下的主玻璃基板中，得到缓和主玻璃基板本身的带电，并且将在主玻璃基板积蓄的电荷均匀化的作用。因此，可以认为在设置了背面ITO之后，在主玻璃基板所经过的制造工艺中的各工序中，得到缓和该主玻璃基板本身的带电，并且将在主玻璃基板积蓄的电荷均匀化的作用，其结果，上述说明的辉点缺陷、产生显示不均得到改善。另一方面，可以认为在成为采用了进行薄化工序的制造工艺的薄型机型、弯曲型机型的液晶显示装置的情况下，至少在直至形成背面ITO前的薄化工序为止的全部工序中，重复在主玻璃基板本身产生带电、在主玻璃基板局部地积蓄电荷，其结果，上述说明的辉点缺陷、显示不均的产生变得显著。