[实用新型]一种快干型易清洁水槽有效

专利信息
申请号: 201921967627.9 申请日: 2019-11-14
公开(公告)号: CN211395855U 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 贝晓贤 申请(专利权)人: 杭州鼎爱智能科技有限公司
主分类号: E03C1/14 分类号: E03C1/14;E03C1/18
代理公司: 杭州凯知专利代理事务所(普通合伙) 33267 代理人: 金盟
地址: 310000 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 快干 清洁 水槽
【权利要求书】:

1.一种快干型易清洁水槽,包括槽体,槽体底面设有落水口,其特征在于:所述的槽体底面设有下沉部,所述的落水口至少部分设置于下沉部内。

2.如权利要求1所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的落水口区域小于下沉部,落水口设置于下沉部内。

3.如权利要求1或2所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的下沉部与槽体底面或/和落水口处斜面、弧面或平滑过渡。

4.如权利要求3所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的下沉部为圆形。

5.如权利要求4所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的下沉部为与落水口同心的圆形。

6.如权利要求5所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的下沉部位于槽体的内侧设有纳米涂层。

7.如权利要求6所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的槽体内设有纳米涂层。

8.如权利要求7所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的纳米涂层为纳米抗菌涂层。

9.如权利要求7所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的槽体上端、位于后侧设有向上的凸起的阶梯,所述的阶梯向前的侧壁上设有发光体,所述的发光体倾斜向前向下设置。

10.如权利要求5所述的快干型易清洁水槽,其特征在于:所述的下沉部过轴心或平行于轴心线的截面为斜面、弧面或斜面与弧面的结合。

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