[实用新型]一种LED制造用光罩板有效
申请号: | 201921945111.4 | 申请日: | 2019-11-12 |
公开(公告)号: | CN210924182U | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 李锦新 | 申请(专利权)人: | 李锦新 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L33/00 |
代理公司: | 北京艾皮专利代理有限公司 11777 | 代理人: | 杨克 |
地址: | 850000 西藏自治区拉萨*** | 国省代码: | 西藏;54 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 制造 用光 | ||
本实用新型公开了一种LED制造用光罩板,包括非晶圆曝光部,所述非晶圆曝光部的内侧开设有晶圆安装通槽,所述晶圆安装通槽的内侧连接有连接条,所述连接条的末端连接有晶圆曝光部,所述非晶圆曝光部的前侧设置有前侧荧光层,所述非晶圆曝光部的后侧设置有后标记层,所述前侧荧光层的外侧设置有前防震胶层,所述后标记层的外侧设置有后防震胶层,所述非晶圆曝光部的内侧开设有矩形取物槽,实用新型前侧荧光层的外侧设置有前防震胶层,可通过矩形取物槽拿取,解决了使用LED制造用光罩板时,由于LED制造用光罩板表面光滑难以便于光罩板叠加运输,同时难以保证光罩板便于取用,影响了LED制造用光罩板的使用效果的问题。
技术领域
本实用新型属于光罩板技术领域,具体涉及一种LED制造用光罩板。
背景技术
众多的半导体制程中,黄光制程无疑占据着重要地位,甚至可以说黄光占据着前段制程周期中一半以上的时间。以发光二极管制程为例,黄光制程占约60%的时间,LED制造用光罩板多用于黄光制造。
但是目前市场上的LED制造用光罩板在使用的过程中仍然存在一定的缺陷,例如,使用LED制造用光罩板时,由于LED制造用光罩板表面光滑难以便于光罩板叠加运输,同时难以保证光罩板便于取用,影响了LED制造用光罩板的使用效果,同时使用LED制造用光罩板时,LED制造用光罩板不便于取下晶圆曝光部,影响了LED制造用光罩板使用的便捷性。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种LED制造用光罩板,以解决上述背景技术中提出的使用LED制造用光罩板时,由于LED制造用光罩板表面光滑难以便于光罩板叠加运输,同时难以保证光罩板便于取用,以及LED制造用光罩板不便于取下晶圆曝光部的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种LED制造用光罩板,包括非晶圆曝光部,其特征在于:所述非晶圆曝光部的内侧开设有晶圆安装通槽,所述晶圆安装通槽的内侧连接有连接条,所述连接条的末端连接有晶圆曝光部,所述非晶圆曝光部的前侧设置有前侧荧光层,所述非晶圆曝光部的后侧与前侧荧光层的对应位置处设置有后标记层,所述前侧荧光层的外侧设置有前防震胶层,所述后标记层的外侧设置有后防震胶层,所述非晶圆曝光部的内侧开设有矩形取物槽,所述矩形取物槽共设置有两个,两个所述矩形取物槽分别位于前侧荧光层的两侧,所述晶圆曝光部的两侧贴设有不透光保护膜。
优选的,所述前侧荧光层设置为矩形框状涂层。
优选的,所述前防震胶层设置为透明胶层。
优选的,所述后防震胶层的外侧设置有防滑纹。
优选的,所述前防震胶层与后防震胶层的厚度相等。
优选的,所述不透光保护膜的外侧设置有静电保护膜。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
(1)本实用新型非晶圆曝光部的前侧设置有前侧荧光层,前侧荧光层的外侧设置有前防震胶层,非晶圆曝光部的内侧开设有矩形取物槽,多块晶圆放置时,使用者可将晶圆叠加放置,一块晶圆的后防震胶层叠加到另一块的前防震胶层上,胶层之间以产生相互粘粘,使得晶圆叠加的更加牢固,便于运输,当使用者需要拿取晶圆时,可通过矩形取物槽拿取,解决了使用LED制造用光罩板时,由于LED制造用光罩板表面光滑难以便于光罩板叠加运输,同时难以保证光罩板便于取用,影响了LED制造用光罩板的使用效果的问题。
(2)本实用新型晶圆安装通槽的内侧连接有连接条,使用者可通过剪断连接条,取下晶圆曝光部,便于使用者取用晶圆曝光部,解决了使用LED制造用光罩板时,LED制造用光罩板不便于取下晶圆曝光部,影响了LED制造用光罩板使用的便捷性的问题
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的晶圆曝光部结构示意图;
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备