[实用新型]碳纳米管批量连续化生产设备

权利要求书

1.一种碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，包括：碳源裂解装置和碳纳米管生长装置；

所述碳源裂解装置包括：碳源裂解腔体，第一加热组件、碳源进气口和碳源出气口；

所述碳纳米管生长装置包括：碳纳米管生长腔体、传送组件、第二加热组件、进气口和出气口；

其中，所述传送组件用于连续传送碳纳米管生长基片，所述碳源出气口与所述碳纳米管生长装置的进气口导通；

所述第一加热组件为所述碳源裂解腔体提供裂解温度，所述第二加热组件为所述碳纳米管生长腔体提供碳纳米管生长温度。

2.根据权利要求1所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，在所述碳纳米管生长腔体内，所述传送组件从腔体的一端向相对的另一端延伸设置，所述传送组件从工作顺序依次包括进样单位、传送单位、回收单位。

3.根据权利要求2所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，所述进样单位为所述传送单位提供所述碳纳米管生长基片，所述碳纳米管生长基片在所述传送单位上进行碳纳米管生长，所述传送单位能够驱动所述碳纳米管生长基片朝所述回收单位移动。

4.根据权利要求3所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，所述传送单位包括间隔设置的两组传动导轨，所述两组传动导轨支撑所述碳纳米管生长基片的两对立侧边而进行运送。

5.根据权利要求4所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，所述传动导轨设置有凹槽，所述碳纳米管生长基片的两对立侧边分别夹持在所述传送单位的两组传动导轨的凹槽中；或者，

所述传送单位为间隔设置的两组传动导轨，所述传动导轨设置有凸台，所述碳纳米管生长基片的两对立侧边分别放置于所述传送单位的两组传动导轨的凸台上得到支撑。

6.根据权利要求5所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，所述碳纳米管生长基片包括靠近所述传送单位的下表面和远离所述传送单位的上表面，至少所述碳纳米管生长基片的所述上表面设置有碳纳米管生长催化剂层。

7.根据权利要求2～6任一所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，所述第二加热组件具有加热通道，所述传送单位穿设于所述加热通道内；或者，

所述第二加热组件在所述传送单位的下侧沿所述进样单位向所述回收单位设置。

8.根据权利要求7所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，所述第二加热组件形成的加热通道的横截面为圆环形或矩形；和/或，

所述第二加热组件的设置长度为所述传送单位长度的部分或全部。

9.根据权利要求1～6或8任一所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，所述第一加热组件设置在所述碳源裂解装置的部分或者全部壁面；和/或，

所述第一加热组件和所述第二加热组件选自：石英加热管或者钨丝。

10.根据权利要求9所述的碳纳米管批量连续化生产设备，其特征在于，所述碳纳米管批量连续化生产设备还包括抽真空装置，所述抽真空装置与所述碳纳米管生长装置连接，对所述碳纳米管生长腔体进行真空处理；和/或，

所述碳纳米管批量连续化生产设备还包括保护气体提供装置，所述保护气体提供装置与所述碳源裂解装置和/或所述碳纳米管生长装置连接，所述保护气体提供装置至少能提供氮气、氩气、氦气中的一种保护气体；和/或，

所述碳纳米管批量连续化生产设备还包括控制组件，所述控制组件用于调控所述碳纳米管批量连续化生产设备中各组件中的至少一个。