[实用新型]薄片类介质处理装置

说明书

本实用新型提供了一种薄片类介质处理装置，涉及介质处理设备技术领域，包括机柜、机盖、进出机构、处理机构及限位组件，机盖与机柜活动连接，机盖设有第一出入口；进出机构固设于机盖，进出机构设有进出通道，且进出通道第一端与第一出入口连通；处理机构位于机柜内且与机柜活动连接，处理机构设有第二出入口；机盖打开时，限位组件被配置为使处理机构位于设定位置；机盖闭合时，机盖带动处理机构偏离设定位置，进出机构与处理机构卡接，且进出通道第二端与第二出入口连通。该处理装置的处理机构活动设置于机柜，机盖闭合时，限位组件使得进出机构能与处理机构可靠卡接，使进出通道能与第二出入口可靠地连通，保证薄片类介质能正常输入输出。

技术领域

本实用新型涉及介质处理设备技术领域，尤其是涉及一种薄片类介质处理装置。

背景技术

薄片类介质处理装置能够提高薄片类介质的处理效率。相关技术的薄片类介质处理装置包括机柜和机盖，机盖设置有第一出入口，机柜内设置有机芯，机芯包括处理机构，处理机构设置有第二出入口，机盖与机柜活动连接，机盖能相对机柜打开或闭合，机盖打开时，可对处理机构进行维护等操作；机盖闭合时，第一出入口与第二出入口连通。

相关技术的薄片类介质处理装置在机盖内侧设置进出机构，薄片类介质可通过进出机构进入第二出入口，或者处理机构输出的薄片类介质可通过进出机构到达第一出入口，因此进出机构需要与处理机构可靠地连接，以保证薄片类介质的顺利输入或输出，然而相关技术的薄片类介质处理装置存在机盖闭合时，进出机构无法与处理机构可靠地连接，进而造成薄片类介质无法正常输入或输出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种薄片类介质处理装置，以缓解相关技术中存在的机盖闭合时，进出机构无法与处理机构可靠地连接，进而造成薄片类介质无法正常输入或输出的问题。

本实用新型提供的薄片类介质处理装置，包括机柜、与所述机柜活动连接的机盖、固定设置于所述机盖的进出机构、位于所述机柜内且与所述机柜活动连接的处理机构，以及限位组件；所述机盖可相对所述机柜打开或闭合，所述机盖设有第一出入口；所述进出机构设有进出通道，且所述进出通道的第一端与所述第一出入口连通；所述处理机构设有第二出入口；所述机盖打开时，所述限位组件被配置为使所述处理机构位于设定位置；所述机盖闭合时，所述机盖带动所述处理机构偏离所述设定位置，所述进出机构与所述处理机构卡接，且所述进出通道的第二端与所述第二出入口连通。

进一步地，所述处理机构通过枢接轴枢接于所述机柜，所述限位组件邻近所述枢接轴设置。

进一步地，所述限位组件包括限位件，所述限位件设置于所述处理机构和所述机柜中的一者，且所述限位件被配置为抵接于所述处理机构和所述机柜中的另一者，以使所述处理机构始终具有向所述设定位置运动的趋势。

进一步地，所述限位组件还包括弹性件，所述弹性件与所述限位件连接，所述弹性件作用于所述限位件，以使所述限位件具有抵接于所述机柜或所述处理机构的运动趋势。

进一步地，所述处理机构和所述柜体中的一者上设置有一端开口的套筒，所述弹性件和所述限位件均设置于所述套筒，所述弹性件的一端抵接于所述套筒，另一端抵接于所述限位件，且所述限位件的端部伸出所述套筒的开口，并抵接于所述处理机构和所述机柜中的另一者上。

进一步地，所述限位组件的数量为两个，两个所述限位组件沿平行于所述枢接轴的方向间隔设置。

进一步地，所述限位组件包括限位槽和限位轴，所述限位槽设置于所述机柜和所述处理机构中的一者，所述限位轴设置于所述机柜和所述处理机构中的另一者，所述限位轴与所述限位槽插接。

进一步地，所述进出机构和所述处理机构中的一者设置有卡槽，所述进出机构和所述处理机构中的另一者设置有卡接部，所述机盖闭合时，所述卡接部与所述卡槽卡接。