[实用新型]支撑装置、投影装置和机柜

说明书

本实用新型公开了支撑装置、投影装置和机柜。支撑装置中第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引，第三定位单元可与第二定位单元通过定位斜面接触，定位斜面的方向倾斜于平移组件与导向组件之间的平移方向。有益效果：第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引，使平移组件与导向组件之间可定位准确，且磁力根据第三定位单元与第一定位单元或第二定位单元之间的间距逐渐变化，有利于减小平移组件与导向组件之间相互定位时产生的冲击，从而实现平稳定位和准确定位。本实用新型涉及用于投影设备的支撑装置。

技术领域

本实用新型涉及用于投影设备的支撑装置，特别涉及支撑装置、投影装置和机柜。

背景技术

用于投影设备的支撑装置可为投影机提供导向和定位作用。常见的支撑装置的是滑轨式的，投影机可通过滑轨在预设的活动范围内往复运动。滑轨式的支撑装置使投影机滑移到预设的工作位置进行投影，并可通过滑轨平移回到收纳状态。支撑装置中滑轨的限位功能一般是通过滑轨自身运动到极限状态来实现的。用户通过手动推动投影机沿滑轨平移，使投影机运动到滑轨的极限状态，从而使投影机实现定位。现有技术中的支撑装置的技术缺陷在于：滑轨中缺少缓和的制动机制，当滑轨运动到极限状态时，滑轨中的限位机构会发生一定程度的碰撞，碰撞容易使投影机的定位精度变差，使投影机逐渐偏离预设的工作位置，从而使投影画面的位置出现偏移。

实用新型内容

本实用新型的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种可实现平稳定位且定位准确的支撑装置、投影装置和机柜。

为解决上述技术问题所采用的技术方案：

支撑装置，包括：导向组件，导向组件上设有第一定位单元和第二定位单元；平移组件，平移组件上设有第三定位单元，第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引，第三定位单元与第二定位单元之间还设有定位斜面，平移组件可沿导向组件平移并带动第三定位单元在第一定位单元与第二定位单元之间运动，第三定位单元可与第二定位单元通过定位斜面接触，定位斜面的方向倾斜于平移组件与导向组件之间的平移方向。

上述支撑装置至少具有以下有益效果：

第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引，使平移组件与导向组件之间可定位准确，且磁力根据第三定位单元与第一定位单元或第二定位单元之间的间距逐渐变化，有利于减小平移组件与导向组件之间相互定位时产生的冲击，从而实现平稳定位和准确定位；在第三定位单元与第二定位单元相互接近时，第三定位单元和第二定位单元可通过定位斜面相互接触，定位斜面可为第三定位单元和第二定位单元提供缓和的限位作用，有利于进一步减小平移组件与导向组件之间相互定位时产生的冲击。

在本实用新型的一种可能的实施例中，第一定位单元、第二定位单元和第三定位单元上分别设有永磁体，永磁体使第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引。永磁体使第一定位单元、第二定位单元和第三定位单元的磁性可保持稳定，有利于提高支撑装置的可靠性。

在本实用新型的一种可能的实施例中，第二定位单元上还设有定位块，第三定位单元上还设有定位槽，定位块在第二定位单元的定位斜面上凸起，定位槽在第三定位单元的定位斜面上凹陷，定位块可嵌入到定位槽内。定位块与定位槽相互配合，可减小第三定位单元与第二定位单元之间错位的可能性。

在本实用新型的一种可能的实施例中，定位斜面包括第一斜面和第二斜面，定位块和定位槽设在定位斜面的中部并将定位斜面分隔成第一斜面和第二斜面。定位块和定位槽布置在第一斜面和第二斜面之间，可减小第三定位单元与第二定位单元发生侧向错位的风险。

投影装置，包括支撑装置。

机柜，包括支撑装置。