[实用新型]光学成像膜

说明书

本实用新型公开一种光学成像膜，其包括：透明基材层，其包括相对设置的第一表面和第二表面；彩色胶层，其包括通过光刻彩色胶或蚀刻金属形成的复数微图文，所述复数微图文直接排布于所述第一表面；聚焦层，其包括排布于所述第二表面上的复数微透镜；其中，所述微图文和所述微透镜相适配形成上浮和/或下沉的影像。微图文直接排布于第一表面，微图文的分辨率高，微图文的结构边界锐利、高度均匀，从而形成的影像清晰度较高。

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种光学成像膜。

背景技术

各种三维成像技术在信息、显示、医疗、军事等领域受到越来越多的关注。利用微透镜技术实现三维成像，具有非常的潜力和前景。它是由G.Lippman于1908年提出的集成摄影术发展而来。一组具有三维场景不同透视关系的二维单元图像被一个透镜阵列和图像采集记录，无需特殊的观察眼镜和照明，就可以在显示微透镜阵列的前方直接观察到原始场景的三维图像。随着微透镜阵列制造工艺的发展和高分辨率印刷和图像传感器的普及，集成成像技术吸引了越来越多的关注，集成成像和显示技术的各项性能，也得到了提升。

现有的光学成像膜一般包括透镜阵列和图文阵列，图文阵列和透镜阵列相配合形成上浮或下沉的影像。现有的图文一般通过打印的方式形成，然，由打印的方式形成的图文分辨率较低，图文的图形不够规整，从而形成的影像清晰度不够。

鉴于此，本实用新型通过改善光学成像膜以解决所存在的技术问题。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种光学成像膜以解决上述的技术问题。

本实用新型的一个技术方案是：

一种光学成像膜，其包括：

透明基材层，其包括相对设置的第一表面和第二表面；

彩色胶层，其包括通过光刻彩色胶形成的复数微图文，所述复数微图文直接排布于所述第一表面；

聚焦层，其包括排布于所述第二表面上的复数微透镜；

其中，所述微图文和所述微透镜相适配形成上浮和/或下沉的影像。

在其中一实施例中，所述微图文的高度范围为1-3μm。

在其中一实施例中，所述复数微图文的高度差小于50nm。

在其中一实施例中，所述复数微图文的平均表面粗糙度为1-50nm。

另一个技术方案是：

一种光学成像膜，其包括：

透明基材层，其包括相对设置的第一表面和第二表面；

金属镀层，其包括通过蚀刻金属形成的复数微图文，所述复数微图文直接排布于所述第一表面；

聚焦层，其包括排布于所述第二表面上的复数微透镜；

其中，所述微图文和所述微透镜相适配形成上浮和/或下沉的影像。

在其中一实施例中，所述微图文的高度范围为50-300nm。

在其中一实施例中，所述复数微图文的平均表面粗糙度为0.1-10nm。

在其中一实施例中，所述聚焦层包括通过激光直写光刻胶形成的排布于所述第二表面上的复数微透镜。

在其中一实施例中，所述复数微透镜阵列周期排布，所述复数微图文阵列周期排布，所述复数微图文的占空比范围为30％-80％；或者，所述复数微透镜随机排布，所述复数微图文随机排布，所述微图文的平均占空比范围为30％-80％。

在其中一实施例中，所述透明基材层为蓝宝石玻璃层、有机玻璃层、PET层、PI层、CPI层、PC层、PMMA层。