[实用新型]一种超真空吸附式工作台有效

专利信息
申请号: 201921876678.0 申请日: 2019-11-01
公开(公告)号: CN211194923U 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 李宏益 申请(专利权)人: 李宏益
主分类号: B29C63/02 分类号: B29C63/02;B29L31/34
代理公司: 合肥中谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34146 代理人: 洪玲
地址: 238000 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 吸附 工作台
【权利要求书】:

1.一种超真空吸附式工作台,该工作台应用于覆膜设备中,用于放置和固定待加工的工件,该工作台包括矩形放置台(1)和设置于放置台(1)底部的升降机构,其特征在于:所述放置台(1)的上表面向下凹陷,形成凹槽,凹槽位置用于放置待覆膜的工件,所述放置台(1)的凹槽表面设置有若干通气孔(11),所述通气孔(11)贯穿放置台(1),且所述通气孔(11)在放置台(1)表面呈回形环状排布,各环状排布的通气孔(11)的底部均设置有与其相匹配的环状充气箱(12),所述充气箱(12)的底部通过导气管(121)连接有气泵,所述气泵与设置于该工作台外部的控制器的输出端连接。

2.根据权利要求1所述的一种超真空吸附式工作台,其特征在于:所述放置台(1)的表面中心位置设置有放置槽(13),所述放置槽(13)内设置有与其形状相互匹配的伸缩杆(14),所述伸缩杆(14)与控制器的输出端连接。

3.根据权利要求2所述的一种超真空吸附式工作台,其特征在于:所述升降机构包括设置于该放置台(1)底部的若干支撑座(2),所述支撑座(2)与控制器的输出端连接。

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