[实用新型]足浴盆

说明书

本实用新型涉及洗浴工具技术领域，公开了一种足浴盆，包括盆体、脚底按摩器、和脚面清洗器，脚尖位于盆体第一端，脚跟位于盆体第二端，脚底按摩器和脚面清洗器都设置在盆体内，脚底按摩器包括主滚轮，主滚轮设置在靠近盆体第二端的位置，脚面清洗器设置在脚底按摩器的上方，脚面清洗器的轴线与主滚轮的轴线共同所在的平面与竖直平面之间设有夹角α、且脚面清洗器至盆体第一端的距离小于主滚轮至盆体第一端的距离。如此设置，解决了现有技术中脚面清洗器设置在靠近脚跟的滚轮的正上方，造成足浴盆靠近脚跟的盆壁和脚面清洗器之间的距离过小，双脚不易伸入足浴盆内部，使用感差的问题。

技术领域

本实用新型涉及洗浴工具技术领域，更具体地说，涉及一种足浴盆。

背景技术

现有技术中的足浴盆包括用于按摩、清洗脚底的滚轮，还包括用于按摩、清洗脚面和脚趾的脚面清洗器，脚面清洗器设置在靠近脚跟的滚轮的正上方，使用时，双脚需要沿脚跟至脚尖的方向、从靠近脚跟的滚轮和脚面清洗器之间伸入足浴盆内部，以使双脚位于脚面清洗器和滚轮之间，使脚面清洗器和滚轮均能发挥作用，但是由于脚面清洗器设置在靠近脚跟的滚轮的正上方，而靠近脚跟的滚轮距离盆壁之间的距离过小，使得脚面清洗器和盆壁之间的距离过小，双脚不易伸入足浴盆内部，造成使用感差的缺陷。因此，如何解决现有技术中脚面清洗器设置在靠近脚跟的滚轮的正上方，造成足浴盆靠近脚跟的盆壁和脚面清洗器之间的距离过小，双脚不易伸入足浴盆内部，使用感差的问题，成为本领域技术人员急需解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种足浴盆以解决现有技术中存在的脚面清洗器设置在靠近脚跟的滚轮的正上方，造成足浴盆靠近脚跟的盆壁和脚面清洗器之间的距离过小，双脚不易伸入足浴盆内部，使用感差的问题。本实用新型提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。

本实用新型提供了一种足浴盆，包括：

盆体，脚尖位于所述盆体第一端，脚跟位于所述盆体第二端；

脚底按摩器，设置在所述盆体内，包括设置在靠近所述盆体第一端的位置的主滚轮；

脚面清洗器，所述脚面清洗器设置在所述脚底按摩器的上方，所述脚面清洗器的轴线与所述主滚轮的轴线共同所在的平面与竖直平面之间设有夹角α、且所述脚面清洗器至所述盆体第一端的距离小于所述主滚轮至所述盆体第一端的距离。

优选地，所述主滚轮端部设有第一齿轮，所述脚面清洗器端部设有第三齿轮，所述第一齿轮和所述第三齿轮之间设有与所述第一齿轮以及所述第三齿轮均相互啮合的第二齿轮，以使所述主滚轮转动带动所述脚面清洗器转动，所述第一齿轮、所述第二齿轮、所述第三齿轮的轴线共同所在的平面与竖直平面之间设有夹角α，且所述第一齿轮、所述第二齿轮、所述第三齿轮至所述盆体第一端的距离逐步减小。

优选地，所述夹角α为20-40度。

优选地，所述夹角α为30度。

优选地，还包括与所述主滚轮并排设置的副滚轮、用于驱动所述主滚轮转动的驱动装置，所述主滚轮与所述副滚轮之间通过第四齿轮相啮合，以使所述主滚轮带动所述副滚轮转动。

优选地，所述主滚轮和所述副滚轮上均设有橡胶触头。

优选地，所述脚面清洗器包括洗刷轴、设置在所述洗刷轴上的毛刷和橡胶软棒，所述洗刷轴可转动的设置在所述盆体的内壁上，所述第三齿轮设置在所述洗刷轴的端部。

优选地，所述橡胶软棒上设有凸起的按摩颗粒，所述洗刷轴的第一端和所述洗刷轴的第二端均设有至少三种长度不同的所述橡胶软棒，且各种不同长度的所述橡胶软棒沿所述洗刷轴的轴向分布。

优选地，所述毛刷和所述橡胶软棒呈放射状设置在洗刷轴外周面上，所述洗刷轴的同一横截面上设有多个所述毛刷和多个所述橡胶软棒、且所述毛刷和所述橡胶软棒交替设置。