[实用新型]一种晶圆存放盒清洗机构

说明书

本申请涉及一种晶圆存放盒清洗机构，喷管设置在旋转架的内部和外部，以使清洗液或者水能够从两侧向清洗架喷洒，同时清洗架能够旋转，旋转的清洗架能够使晶圆充分地接收喷管喷出的清洗液或者气体，使得对晶圆的清洗更加充分干净。

技术领域

本申请属于晶圆制备设备技术领域，尤其是涉及一种晶圆存放盒清洗机构。

背景技术

生产晶圆的过程中，当生产出了表面平整的晶圆后，晶圆还要进行最终的抛光步骤--化学机械抛光。化学机械抛光是一个化学腐蚀和机械摩擦的结合。晶圆装在旋转的抛光头上，下降到抛光垫的表面以相反的方向旋转。抛光垫材料通常是有填充物的聚亚安酯铸件切片或聚氨酯涂层的无纺布。二氧化硅抛光液在适度含氢氧化钾或氨水的腐蚀液中，滴到抛光垫上。在晶圆腐蚀领域，部分化学品由于其分子结构特殊，具备很高的粘稠性，晶圆从这些粘稠药液中被拿出后需要迅速进行清洗。而晶圆进行清洗时，通常是放在晶圆存放盒内进行清洗。而晶圆存放盒也会被药液污染，因而在下一次装载晶圆前，需要对晶圆存放盒进行清洗。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：为解决现有技术中的不足，从而提供一种清洗干净晶圆存放盒的清洗机构。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种晶圆存放盒清洗机构，包括转轴，设置在所述转轴上的能够跟随转轴转动的旋转架，设置在旋转架上的若干垂直布置的清洗架以及竖直方向设置的喷管；

所述清洗架用于放置安放晶圆片的容器，所述清洗架的两端通过旋转连接机构与所述旋转架连接，以使所述清洗架能够旋转；

所述转轴与电机连接，转轴的顶端和底端均设置有轴承以固定转轴使转轴能够自由转动，转轴的顶端具有顶端密封结构，底端具有底端密封结构；

所述喷管设置在旋转架的内部和外部，以使清洗液或者水能够从两侧向清洗架喷洒。

优选地，本实用新型的晶圆存放盒清洗机构，所述喷管共8对，每对2根，其中4对位于旋转架的内部，4对位于旋转架的外部，在横截面上，位于旋转架内部的每对喷管位于旋转架外部的两对喷管之间。

优选地，本实用新型的晶圆存放盒清洗机构，

每根喷管均包括管体和均匀排布在管体上的喷嘴。

优选地，本实用新型的晶圆存放盒清洗机构，

每对所述喷管中一根喷吹纯水，另一根喷吹氮气；位于旋转架内部和外部各有4根喷吹纯水和4根喷吹氮气的喷管。

优选地，本实用新型的晶圆存放盒清洗机构，所述转轴的顶部与电机连接。

优选地，本实用新型的晶圆存放盒清洗机构，所述顶端密封结构，从上到下包括，密封片，密封法兰，上密封环和下密封环，密封片封堵住密封法兰与转轴之间的间隙，密封法兰与转轴之间设置有轴承，也即密封片、密封法兰与转轴之间设置形成容纳轴承的空间；上密封环套设在密封法兰底端外部，所述上密封环和下密封环通过螺钉固定在一起，且上密封环与下密封环形成密闭腔。

优选地，本实用新型的晶圆存放盒清洗机构，所述上密封环的下表面和下密封环的上表面均设置有位于密闭腔内的环形翅片，所述上密封环的上表面还设置有凸起环。

优选地，本实用新型的晶圆存放盒清洗机构，所述下密封环与转轴之间设置有密封圈。

优选地，本实用新型的晶圆存放盒清洗机构，所述底端密封结构，从上到下包括，第一密封套、第二密封套和轴承端盖，轴承端盖与转轴之间具有轴承，第二密封套与转轴之间设置有密封圈，第二密封套包裹着轴承端盖，第一密封套密封住第二密封套的顶部。

本实用新型的有益效果是：