[实用新型]一种坩埚保护支架有效
| 申请号: | 201921860794.3 | 申请日: | 2019-10-31 |
| 公开(公告)号: | CN210907202U | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
| 发明(设计)人: | 何军舫 | 申请(专利权)人: | 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇(天津)半导体材料有限公司;博宇(朝阳)半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 郑久兴 |
| 地址: | 101101*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 坩埚 保护 支架 | ||
1.一种坩埚保护支架,其特征在于,包括:
底板(1),设置有至少两个条形插孔(11),所述条形插孔(11)的轴线与所述底板(1)的板面垂直;
支撑架(2),所述支撑架(2)设有与所述条形插孔(11)相匹配的插接部(21),所述支撑架(2)与所述底板(1)通过所述插接部(21)插接,所述支撑架(2)设有用于承托坩埚的承托部。
2.根据权利要求1所述的坩埚保护支架,其特征在于,
所述支撑架(2)包括:两个侧板(3)和至少两个支撑板(4);
两个所述侧板(3)设有所述插接部(21),两个所述侧板(3)与所述底板(1)插接;
至少两个所述支撑板(4)设于两个所述侧板(3)之间,至少两个所述支撑板(4)的两端分别与两个所述侧板(3)插接;
至少两个所述支撑板(4)板缘内凹形成所述承托部。
3.根据权利要求2所述的坩埚保护支架,其特征在于,
所述侧板(3)设置有多个与所述支撑板(4)插接的调节槽(31);
所述调节槽(31)延伸至所述侧板(3)至少一侧的板缘。
4.根据权利要求3所述的坩埚保护支架,其特征在于,还包括:
沿所述调节槽(31)延伸方向排列设置的多个限位孔(311);
多个所述限位孔(311)与所述支撑板(4)插接;
所述限位孔(311)与所述调节槽(31)相通。
5.根据权利要求4所述的坩埚保护支架,其特征在于,
所述调节槽(31)垂直于所述底板(1);
所述限位孔(311)呈L形,L形的所述限位孔(311)一端与所述调节槽(31)相通,另一端向所述底板(1)方向延伸。
6.根据权利要求4所述的坩埚保护支架,其特征在于,
所述调节槽(31)平行于所述底板(1);
所述限位孔(311)向所述底板(1)方向延伸。
7.根据权利要求2所述的坩埚保护支架,其特征在于,
所述支撑板(4)两端设有与所述侧板(3)插接的插槽。
8.根据权利要求1所述的坩埚保护支架,其特征在于,
所述支撑架(2)包括:至少两个承接板(5);
至少两个所述承接板(5)的板缘内凹形成所述承托部;
至少两个所述承接板(5)设有所述插接部(21),所述承接板(5)与所述底板(1)插接。
9.根据权利要求8所述的坩埚保护支架,其特征在于,
至少两个所述条形插孔(11)平行设置;
至少两个所述承接板(5)相互平行。
10.根据权利要求8所述的坩埚保护支架,其特征在于,
至少两个所述条形插孔(11)两两垂直设置;
至少两个所述承接板(5)相互交叉连接。
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