[实用新型]一种槽式硅片加工机台

说明书

本实用新型公开了一种槽式硅片加工机台，其包括内槽、外槽、加热装置和均液管，内槽被配为盛放硅片花篮，外槽环绕内槽设置，外槽的上端面高于内槽的上端面，外槽上设有出液口，加热装置包括加热壳体和配合在加热壳体内的加热件，加热壳体位于外槽的外侧，加热壳体具有液体进口和液体出口，液体进口与出液口相连，加热件的外侧设有防腐蚀层，均液管设在内槽内，均液管上设有多个均液孔和进液口，进液口与液体出口相连。该槽式硅片加工机台能够较好地避免加热装置对药液的污染，并且能够较好地保证反应槽内的药液温度较为均匀。

技术领域

本实用新型涉及光伏设备技术领域，尤其涉及一种槽式硅片加工机台。

背景技术

目前主流的槽式机台加热装置仍设计为内置加热，即加热装置安装至槽式机台底部，在设定温度下进行通电加热。由于加热装置整个线路安装至槽体中，经过强酸强碱的高温腐蚀下，很容易形变、破损、变色，内部金属泄露极容易造成槽体污染，直接导致硅片电性能偏低、EL出现晶界痕。且加热装置影响整个药液循环，造成批量色差片，给整个制绒工序带来极大损失。

此外，为了保证槽式机台内部药液的温度较为均匀，加热装置通常采用电加热板，电加热板通常由很多小电阻丝组成，这样更容易被药液腐蚀从而污染药液。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种槽式硅片加工机台，该槽式硅片加工机台能够较好地避免加热装置对药液的污染，并且能够较好地保证反应槽内的药液温度较为均匀。

为实现上述技术效果，本实用新型实施例的槽式硅片加工机台的技术方案如下：

一种槽式硅片加工机台，包括：内槽，所述内槽被配为盛放硅片花篮；外槽，所述外槽环绕所述内槽设置，所述外槽的上端面高于所述内槽的上端面，所述外槽上设有出液口；加热装置，所述加热装置包括加热壳体和配合在所述加热壳体内的加热件，所述加热壳体位于所述外槽的外侧，所述加热壳体具有液体进口和液体出口，所述液体进口与所述出液口相连，所述加热件的外侧设有防腐蚀层；均液管，所述均液管设在所述内槽内，所述均液管上设有多个均液孔和进液口，所述进液口与所述液体出口相连。

在一些实施例中，所述槽式硅片加工机台还包括温度检测件，所述温度检测件设在所述内槽内，所述温度检测件被配置为检测所述内槽的药液温度，所述温度检测件与所述加热件电连接。

在一些实施例中，所述槽式硅片加工机台还包括输送泵，所述输送泵设在所述出液口与所述液体进口之间。

在一些可选的实施例中，所述槽式硅片加工机台还包括第一液位传感器，所述第一液位传感器设在所述外槽上，所述第一液位传感器被配置为检测所述外槽内的液面高度，所述第一液位传感器与所述输送泵电连接。

在一些具体的实施例中，所述槽式硅片加工机台还包括第二液位传感器，所述第二液位传感器设在所述加热壳体上，所述第二液位传感器被配置为检测所述加热壳体内的液面高度，所述第二液位传感器与所述输送泵电连接。

在一些更具体的实施例中，所述第二液位传感器位于所述液体出口的上方。

在一些可选的实施例中，所述槽式硅片加工还包括分流管和控制阀，所述分流管的一端连接在输送泵上，另一端与所述均液管的所述均液孔相连，所述分流管上设有分流阀，所述控制阀设在所述均液管与所述出液口之间。

在一些具体的实施例中，所述槽式硅片加工机台还包括花篮支架，所述花篮支架设在所述内槽内，所述花篮支架被配置为支撑所述硅片花篮。

在一些更具体的实施例中，所述均液管的两端配合在所述花篮支架上，所述均液管与所述内槽的底壁间隔设置。

在一些更具体实施例中，多个所述均液孔沿所述均液管的长度方向均匀间隔分布。